Zobrazeno 1 - 10
of 42
pro vyhledávání: '"F.H. Ko"'
Publikováno v:
CLEO/Pacific Rim 2003. The 5th Pacific Rim Conference on Lasers and Electro-Optics (IEEE Cat. No.03TH8671).
We demonstrated an antireflective coating structure based on a Fabry-Perot structure for binary masks of ArF and F/sub 2/ excimer laser lithographies. Reflectance of less than l% at both 193 and 157 nm can be achieved.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::15df39279729f93448c31fa2de7a03e8
https://doi.org/10.1109/cleopr.2003.1277293
https://doi.org/10.1109/cleopr.2003.1277293
Publikováno v:
CLEO/Pacific Rim 2003. The 5th Pacific Rim Conference on Lasers and Electro-Optics (IEEE Cat. No.03TH8671).
We demonstrate an optical-gradient bottom antireflective coating film, which is prepared by a silicon nitride film treated with oxygen plasma. Results indicate that the optical-gradient type film is suitable for sub-70 nm optical lithography applicat
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::55c8ae1977e52de11d4456f31fb769e2
https://doi.org/10.1109/cleopr.2003.1277241
https://doi.org/10.1109/cleopr.2003.1277241
Publikováno v:
Digest of Papers Microprocesses and Nanotechnology 2003. 2003 International Microprocesses and Nanotechnology Conference.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::28a511fa50e9a33c737c747e205aac5f
https://doi.org/10.1109/imnc.2003.1268535
https://doi.org/10.1109/imnc.2003.1268535
Publikováno v:
2002 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, 2002. Digest of Papers..
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7ce89f9c3da6df47c08475a9050cf1d6
https://doi.org/10.1109/imnc.2002.1178544
https://doi.org/10.1109/imnc.2002.1178544
Publikováno v:
Digest of Papers. Microprocesses and Nanotechnology 2001. 2001 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (IEEE Cat. No.01EX468).
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d982b9405e9047d36c3e400cc7a340bf
https://doi.org/10.1109/imnc.2001.984174
https://doi.org/10.1109/imnc.2001.984174
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 21:3057
We demonstrate a structure for an attenuated phase-shifting mask (APSM) which is based on a three-layer Fabry–Perot structure for ArF (193 nm) and F2 (157 nm) excimer laser based lithographies. The APSM structure is composed of a metal/dielectric/m
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0cdc35a14a5e8c5e0cabee5c0c826196
https://doi.org/10.1116/1.1624251
https://doi.org/10.1116/1.1624251
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.