Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"F. Baszler"'
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 21:103-106
Publikováno v:
Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing II.
We report on a new modeling tool for the prediction of the cumulative dose delivered to any given layer of a semiconductor process involving x-ray lithography (XRL) steps. In such a process, the layers receive various doses at different steps in the
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.