Zobrazeno 1 - 7
of 7
pro vyhledávání: '"Ethan Maguire"'
Publikováno v:
Optical and EUV Nanolithography XXXVI.
Publikováno v:
Optical and EUV Nanolithography XXXVI.
Autor:
Jeonghoon Lee, Sandip Halder, Van Tuong Pham, Roberto Fallica, Seonggil Heo, Kaushik Sah, Hyo Seon Suh, Victor Blanco, Werner Gillijns, Andrew Cross, Ethan Maguire, Ana-Maria Armeanu, Vladislav Liubich, Evgeny Malankin, Xima Zhang, Monica Kempsell Sears, Neal Lafferty, Germain Fenger, Chih-I Wei, Ryoung Han Kim
Publikováno v:
DTCO and Computational Patterning II.
Single mask solution to pattern BLP and SNLP using 0.33NA EUV for next-generation DRAM manufacturing
Autor:
Kaushik Sah, Andrew Cross, Sayantan Das, Roberto Fallica, Jeonghoon Lee, Ryan Ryoung Kim, Sandip Halder, Ethan Maguire, Ana-Maria Armeanu, Monica Sears, Neal Lafferty, Vlad Liubich, Chih-i Wei, Germain Fenger
Publikováno v:
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2022.
Autor:
Chih-I Wei, Azat Latypov, Shuling Wang, Satya Sriram, Prakash Deep, Yunfei Deng, Ethan Maguire, Shumay Shang, Germain Fenger, Werner Gillijns
Publikováno v:
Photomask Japan 2022: XXVIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology.
Autor:
Sayantan Das, Kaushik Sah, Roberto Fallica, Zhijin Chen, Sandip Halder, Andrew Cross, Danilo De Simone, Fergo Treska, Philippe Leray, Ryoung Han Kim, Ethan Maguire, Chih-I Wei, Germain Fenger, Neal Lafferty, Jeonghoon Lee
Publikováno v:
Advances in Patterning Materials and Processes XXXIX.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.