Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Etch stopper layer"'
Publikováno v:
Nanoscale Research Letters, Vol 14, Iss 1, Pp 1-10 (2019)
Abstract The effects of diffuse Cu+ in amorphous indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO) thin-film transistors (TFTs) on the microstructure and performance during a clean etch stopper (CL-ES) process and a back channel etch (BCE) process are investigated
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/85f63ac088814e5cb8b5029d3de9043f
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Nanoscale Research Letters
Nanoscale Research Letters, Vol 14, Iss 1, Pp 1-10 (2019)
Nanoscale Research Letters, Vol 14, Iss 1, Pp 1-10 (2019)
The effects of diffuse Cu+ in amorphous indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO) thin-film transistors (TFTs) on the microstructure and performance during a clean etch stopper (CL-ES) process and a back channel etch (BCE) process are investigated and compa
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::47e26eba88b26407edfac1c78df795db
http://europepmc.org/articles/PMC6522603
http://europepmc.org/articles/PMC6522603
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.