Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Electric field induced migration"'
Publikováno v:
International Journal of Electrical and Computer Engineering (IJECE). 12:1265
A reticle is a stencil used in lithography process for forming integrated circuit (IC) on silicon substrate. It consists of a thin (100 nm) coating of masking metallic patterned (features) with critical dimension (CD) of nanometers on a thicker quart
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::7346ad9f71bd42fc5856ae7eba758010
https://doi.org/10.11591/ijece.v12i2.pp1265-1273
https://doi.org/10.11591/ijece.v12i2.pp1265-1273
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.