Zobrazeno 1 - 10
of 742
pro vyhledávání: '"Elam, Jeffrey W."'
Autor:
Yanguas-Gil, Angel, Elam, Jeffrey W.
In this work we explore the application of deep neural networks to the optimization of atomic layer deposition processes based on thickness values obtained at different points of an ALD reactor. We introduce a dataset designed to train neural network
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2205.08378
We have developed a simulation tool to model self-limited processes such as atomic layer deposition and atomic layer etching inside reactors of arbitrary geometry. In this work, we have applied this model to two standard types of cross-flow reactors:
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2106.07132
Autor:
Yang, Xiaobin, Sun, Pan, Wen, Yajie, Mane, Anil U., Elam, Jeffrey W., Ma, Jun, Liu, Shaomin, Darling, Seth B., Shao, Lu
Publikováno v:
In Science Bulletin 30 January 2024 69(2):218-226
Autor:
Dahal, Biplav, Guo, Rui, Pathak, Rajesh, Rezaee, Melorina Dolafi, Elam, Jeffrey W., Mane, Anil U., Li, Wenzhi
Publikováno v:
In Journal of Physics and Chemistry of Solids October 2023 181
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Kucukgok, Bahadir, Mandia, David J., Leach, Jacob H., Evans, Keith R., Eastman, Jeffrey A., Zhou, Hua, Hryn, John, Elam, Jeffrey W., Yanguas-Gil, Angel
We report the optical, electrical, and structural properties of Si doped $\beta$-Ga$_2$O$_3$ films grown on (010)-oriented $\beta$-Ga$_2$O$_3$ substrate via HVPE. Our results show that, despite growth rates that are more than one order of magnitude f
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1906.09306
Autor:
Zhao, Zhenxin, Yi, Zonglin, Duan, Yunrui, Pathak, Rajesh, Cheng, Xiaoqin, Wang, Yongzhen, Elam, Jeffrey W., Wang, Xiaomin
Publikováno v:
In Chemical Engineering Journal 1 May 2023 463
Autor:
Zhao, Zhenxin, Duan, Yunrui, Chen, Feng, Tian, Zhen, Pathak, Rajesh, Elam, Jeffrey W., Yi, Zonglin, Wang, Yongzhen, Wang, Xiaomin
Publikováno v:
In Chemical Engineering Journal 15 December 2022 450 Part 3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.