Výsledky vyhledávání - "Ehrke, U."

Akademický článek

High resolution depth profiling of thin STO in high- k oxide material

Autor: Ehrke, U., Sears, A., Alff, L., Reisinger, D.

Publikováno v: In Applied Surface Science 2004 231:598-602

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Characterization of thin layers in shallow junction technology by quadrupole SIMS.

Autor: Maul, J.L., Ehrke, U.

Publikováno v: Fourth International Workshop on Junction Technology, 2004 (IWJT '04); 2004, p94-97, 4p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Secondary ion mass spectrometry analysis of implanted and rapid thermal processing annealed wafers for sub-100 nanometer technology.

Autor: Ehrke, U., Sears, A., Lerch, W., Paul, S., Roters, G., Downey, D. F., Arevalo, E. A.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2004, Vol. 22 Issue 1, p346-349, 4p

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Conference

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.