Zobrazeno 1 - 10 of 36 pro vyhledávání: '"Efavi, J"'
1
Akademický článek
Impact of Al-, Ni-, TiN-, and Mo-metal gates on MOCVD-grown HfO 2 and ZrO 2 high- κ dielectrics
Autor: Abermann, S., Efavi, J., Sjöblom, G., Lemme, M., Olsson, J., Bertagnolli, E.
Publikováno v: In Microelectronics Reliability 2007 47(4):536-539
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
3
Akademický článek
Highly selective HBr etch process for fabrication of Triple-Gate nano-scale SOI-MOSFETs
Autor: Lemme, M.C., Mollenhauer, T., Gottlob, H., Henschel, W., Efavi, J., Welch, C., Kurz, H.
Publikováno v: In Microelectronic Engineering 2004 73:346-350
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
UV irradiation of Shigella dysenteriae induced the transformation and excision of a presumed integrated lysogenic prophage Shd-4L10 into a lytic phase
Autor: Rodrigues, FK, Armah, G, Fobil, J, Steiner-Asiedu, M, Efavi, J, Addy, B
Publikováno v: Journal of the Ghana Science Association; Vol 14, No 1 (2012); 54-62
Repeated exposures of Shigella dysenteriae strain A to ultra-violetradiation (253.7 nm) with in-tervening outgrowth of survivors gave rise to clear bacteriophage plaques. Isolation, propagation and partial purification of the new Shd-4L10 phages show
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=78975075580c::a849a29c77166949d5aa12dda154a587
https://www.ajol.info/index.php/jgsa/article/view/84192
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje