Zobrazeno 1 - 10
of 20
pro vyhledávání: '"E.J. Shelley"'
Autor:
Mark Jennings, Koichiro Uekusa, Ross N. Chapman, Tetsuya Tada, Jacob Perkins, Irfan Hussain, Louise Eden, Marcus Phillips, Jon A. Preece, Wai Yee Cheung, E.J. Shelley, Takahiro Nakayama, Toshihiko Kanayama
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :737-743
Methanofullerenes, C 60 derivatives, work as negative type electron beam resists, which have 10-nm scale resolution and high dry-etch durability. Their sensitivity (∼10 −3 C/cm 2 ) is one order of magnitude better than that of C 60 . We studied s
Autor:
Irfan Hussain, Takahiro Nakayama, E.J. Shelley, Mark Jennings, Louise Eden, Ross N. Chapman, Koichiro Uekusa, Wai Yee Cheung, Marcus Phillips, Tetsuya Tada, Jacob Perkins, Jon A. Preece, Toshihiko Kanayama
Publikováno v:
Journal of Photopolymer Science and Technology. 14:543-546
Methanofullerenes, a class of C60 derivatives, act as negative type e-beam resists with 10-nm resolution and high dry-etch durability. Their sensitivity is -10-3C/cm2, one order of magnitude better than that of C60. We studied sensitivities of methan
Autor:
Alex P. G. Robinson, T. Tada, Jon A. Preece, Richard E. Palmer, Toshihiko Kanayama, D. Philp, E.J. Shelley
We report systematic studies of the response of C60 derivatives to electron beam irradiation. Films of nine different methanofullerene C60 monoadducts, produced by spin coating on Si surfaces, were irradiated with a 20 keV electron beam. All exhibite
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::004cc4478640eaad17c17c0c12dd720b
https://cronfa.swan.ac.uk/Record/cronfa49469
https://cronfa.swan.ac.uk/Record/cronfa49469
Autor:
T. Tada, E.J. Shelley, Richard E. Palmer, Toshihiko Kanayama, Alex P. G. Robinson, D. Philp, Jon A. Preece
Publikováno v:
MRS Proceedings. 584
We report systematic studies of the response of C60 derivatives to electron beam irradiation. Films of fourteen different mono, tris and tetra adduct methanofullerene C60 derivatives were produced by spin coating on hydrogen terminated silicon substr
Autor:
E.J. Shelley, Jon A. Preece, T. Tada, Toshihiko Kanayama, Richard E. Palmer, Alex P. G. Robinson
Publikováno v:
MRS Proceedings. 546
The fabrication of MEMS and electronic devices relies heavily on lithography. We have explored the application of derivatives of C60, as high resolution, high etch durability resists. Spin coating was used to produce films of various methanofullerene
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.