Zobrazeno 1 - 10
of 15
pro vyhledávání: '"E. Veran"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 85:151-155
Germanium wafer oxidation has been studied by angle resolved X-ray photoelectron spectroscopy (ARXPS). These analyses have been used for testing a new concept for substrate contamination prevention methods using an ultra clean vacuum substrate carrie
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::48a8924f23be9ed203fa7cf2e8d50df4
https://doi.org/10.1016/j.mee.2007.04.149
https://doi.org/10.1016/j.mee.2007.04.149
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Magali Davenet, P. Nesladek, E. Foca, S. HadjRabah, Jean-Marie Foray, Arnaud Favre, M. Tissier, P. Sergent, E. Veran, J. Palisson, F. Dufaye, V. Baudiquez, Bertrand Bellet, S. Gopalakrishnan, I. Hollein, Stuart Gough
Publikováno v:
25th European Mask and Lithography Conference.
Within the frame of the European R&D project the so called "HYMNE" project, lead by STM, advanced vacuum decontamination processes had been demonstrated to be efficient on wafer substrates in order to remove airborne molecular contamination (moisture
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::938fe03ac620be6e34c2de502fcd31ea
https://doi.org/10.1117/12.835172
https://doi.org/10.1117/12.835172
Autor:
Dominique Descamps, Didier Normand, Martin Schmidt, Tiberio Ceccotti, Jean-Marc Weulersse, E. Marquis, Jean-Marie Barbiche, Ph. D'Aux, S. Hulin, R. Bernard, Benoit Barthod, P. Haltebourg, Marc Segers, F. Chichmanian, Olivier Sublemontier, E. Veran, Jean-Francois Hergott, Philippe Cormont, Pierre-Yves Thro, Michel Neu
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Within the PREUVE project, the GAP of CEA Saclay has developed an EUV source that should meet (alpha) -tool specifications by the end of this year. In particular, a laser-produced plasma source has been developed that uses a dense and confined xenon
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::411bded87989c7b7b95a8ee1b475f89c
https://doi.org/10.1117/12.482115
https://doi.org/10.1117/12.482115
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.