Zobrazeno 1 - 10
of 33
pro vyhledávání: '"E. Solecky"'
Autor:
Chas Archie, Bhanwar Singh, Iraj Emami, Mark Caldwell, John A. Allgair, E. Solecky, Bryan J. Rice, Benjamin Bunday, Jason P. Cain
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 20:266-277
The conventional premise, long-touted among the semiconductor processing community, that metrology is a ldquonon-value-added necessary evil,rdquo is a misleading and dangerous assertion, which must be viewed as obsolete thinking. Many metrology appli
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5fc76cfeecfc4f93367995fef0f2d948
https://doi.org/10.1109/tsm.2007.901851
https://doi.org/10.1109/tsm.2007.901851
Autor:
Chas Archie, Vladamir Ukraintsev, Bryan J. Rice, Alfredo Herrera, Jeff W. Ritchison, J. Morningstar, Benjamin Bunday, Mark Caldwell, John A. Allgair, Dilip Patel, Jerry Schlessinger, E. Solecky, Bhanwar Singh, Jason P. Cain, Iraj Emami, Pete Lipscomb, Bill Banke
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The conventional premise that metrology is a "non-value-added necessary evil" is a misleading and dangerous assertion, which must be viewed as obsolete thinking. Many metrology applications are key enablers to traditionally labeled "value-added" proc
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::aaf1c676a93940f2e193105bb59fa2bd
https://doi.org/10.1117/12.714216
https://doi.org/10.1117/12.714216
Autor:
Benjamin Bunday, John A. Allgair, Maayan Bar-Zvi, E. Solecky, John R. Swyers, J. Beach, Chas Archie, Ofer Adan, Ndubuisi G. Orji, Ram Peltinov
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The need for 3D metrology is becoming more urgent to address critical gaps in metrology for both lithographic and etch processes. Current generation lithographic processing (ArF source, where λ=193 nm) sometimes results in photoresist lines with re-
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::98092a0a65882fd40c73a112fe34c238
https://doi.org/10.1117/12.714214
https://doi.org/10.1117/12.714214
Autor:
J. Allgair, Bhanwar Singh, Mark Caldwell, E. Solecky, Chas Archie, Iraj Emami, Benjamin Bunday, Bryan J. Rice
Publikováno v:
2006 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing.
The conventional premise that metrology is a "non-value-added necessary evil" is a misleading one, which must he viewed as obsolete thinking. Much of the metrology requirements are now key enablers to traditionally labeled "value-added" processing st
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9e4592d67ca1ad88c9e31a8cf111fc7b
https://doi.org/10.1109/issm.2006.4493115
https://doi.org/10.1109/issm.2006.4493115
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.