Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"E. Picollet"'
Autor:
D. Tsamados, Raphael Clerc, Laurent Montès, A. Bajolet, Philippe Delpech, J.-C. Giraudin, G. Pananakakis, N. Segura, Gerard Ghibaudo, E. Picollet
Publikováno v:
IEEE Transactions on Electron Devices. 54:742-751
This paper discusses the optimization of series resistance of nonplanar metal-insulator-metal capacitor, i.e., an original 3-D capacitor with a capacitance density of 35 nF/mm2, used in very large scale integration. A fully analytical and physically
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f44538d272350703d50db43a0ad6eb1f
https://doi.org/10.1109/ted.2007.891851
https://doi.org/10.1109/ted.2007.891851
Autor:
Philippe Delpech, Raphael Clerc, Gerard Ghibaudo, Sylvie Bruyere, S. Boret, J.-C. Giraudin, Laurent Montès, G. Pananakakis, E. Picollet, N. Segura, J.-P. Manceau, A. Bajolet
Publikováno v:
Solid-State Electronics. 50:1244-1251
Integrated circuits for analog and telecom applications require metal insulator metal (MIM) capacitors with not only a high capacitance value (typically 5 nF/mm 2 ), but also a low series resistance R s . The optimization of this latter parameter is
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::81e8a2abfd44b7a06df83cbed9d27073
https://doi.org/10.1016/j.sse.2006.06.015
https://doi.org/10.1016/j.sse.2006.06.015
Publikováno v:
2007 IEEE International Electron Devices Meeting.
This paper reports a predictive analytical transmission RLC model of 3D MIM capacitors in a 0.13 mum BICMOS technology. The aim of this predictive model is to help circuit design with compatible CPU time. It allows adjusting process parameters in ord
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::27ef6b8d56791aa25c9818c435b98504
https://doi.org/10.1109/iedm.2007.4418998
https://doi.org/10.1109/iedm.2007.4418998
Publikováno v:
2006 IEEE International Conference on Microelectronic Test Structures.
This paper deals with 5fF//spl mu/m/sup 2/ Ta/sub 2/O/sub 5/ MIM (metal-insulator-metal) dielectric relaxation characterization and modeling. The Dow model based on RC poles is reviewed in particular to introduce temperature behavior. An optimized te
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1f32f296111950c7daca38513cf449d8
https://doi.org/10.1109/icmts.2006.1614303
https://doi.org/10.1109/icmts.2006.1614303
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.