Knihovna AV ČR, v. v. i.
  • Odhlásit
  • Přihlášení
  • Jazyk
    • English
    • Čeština
  • Instituce
    • Knihovna AV ČR
    • Souborný katalog AV ČR
    • Archeologický ústav Brno
    • Archeologický ústav Praha
    • Astronomický ústav
    • Biofyzikální ústav
    • Botanický ústav
    • Etnologický ústav
    • Filosofický ústav
    • Fyzikální ústav
    • Fyziologický ústav
    • Geofyzikální ústav
    • Geologický ústav
    • Historický ústav
    • Masarykův ústav
    • Matematický ústav
    • Orientální ústav
    • Psychologický ústav
    • Slovanský ústav
    • Sociologický ústav
    • Ústav analytické chemie
    • Ústav anorganické chemie
    • Ústav pro českou literaturu
    • Ústav dějin umění
    • Ústav fyziky atmosféry
    • Ústav fotoniky a elektroniky
    • Ústav fyzikální chemie J. H.
    • Ústav fyziky materiálů
    • Ústav geoniky
    • Ústav pro hydrodynamiku
    • Ústav chemických procesů
    • Ústav informatiky
    • Ústav pro jazyk český
    • Ústav jaderné fyziky
    • Ústav makromolekulární chemie
    • Ústav pro soudobé dějiny
    • Ústav přístrojové techniky
    • Ústav státu a práva
    • Ústav struktury a mechaniky hornin
    • Ústav teoretické a aplikované mechaniky
    • Ústav teorie informace a automatizace
    • Ústav výzkumu globální změny
Pokročilé vyhledávání
  • Domovská stránka
  • Vyhledávání: "E. P. Hollar"
  • Navrhnout nákup titulu
Zobrazeno 1 - 10 of 18 pro vyhledávání: '"E. P. Hollar"'
1
Crystallization of isolated amorphous zones in semiconductors
Autor: I. Jenčič, Ian M. Robertson, E. P. Hollar
Publikováno v: Philosophical Magazine. 83:2557-2571
Thermal annealing, irradiation with electrons (25-300 keV), and irradiation with photons (hν = 2.33-3.88 eV) have been used to stimulate the crystallization of isolated amorphous zones in Si, Ge, GaAs, GaP and InP. Transmission electron microscopy a
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f007fa868b4c5d0b7924a11c87ecb4ff
https://doi.org/10.1080/1478643031000119976
Zobrazit plný text záznamu
2
Computer image analysis of shrinkage of isolated amorphous zones in semiconductors induced by electron beam
Autor: E. P. Hollar, J. Skvarč, I. Jenčič, Ian M. Robertson
Publikováno v: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 186:126-131
Isolated amorphous zones were created in Ge by implantation with 50 keV Xe ions. Recrystallization of these zones was stimulated by irradiation with electrons having energy from 25 to 300 keV. The process was studied by using transmission electron mi
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a2be6a021a08940919d2ba5cfb095114
https://doi.org/10.1016/s0168-583x(01)00892-8
Zobrazit plný text záznamu
3
Electron-induced regrowth of isolated amorphous zones in GaAs
Autor: Ian M. Robertson, I. Jenčič, E. P. Hollar
Publikováno v: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. :197-201
Electron transparent GaAs samples were implanted at 300 K and at 90 K with 50 keV Xe ions, which created small (∼8 nm in diameter) amorphous zones in the crystalline structure. These amorphous zones were observed using a transmission electron micro
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::bb9bc0c1a6c8a69d57a342e57b3325a3
https://doi.org/10.1016/s0168-583x(01)00339-1
Zobrazit plný text záznamu
4
Electronic transitions associated with small crystalline silicon inclusions within an amorphous silicon host
Autor: Hyun Chul Jin, Daewon Kwon, John R. Abelson, E. P. Hollar, Chih-Chiang Chen, J. David Cohen, Ian M. Robertson
Publikováno v: Physical Review B. 60:4442-4445
Amorphous silicon films were prepared by dc reactive magnetron sputtering under a range of hydrogen or deuterium partial pressures approaching the phase transition to full microcrystallinity. Tunneling electron microscopy imaging indicated that these
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b7814164a1c80bcf7ed2fcb34704e953
https://doi.org/10.1103/physrevb.60.4442
Zobrazit plný text záznamu
5
Laser- and Electron-Induced Recrystallization of Amorphous Zones in Elemental and Compound Semiconductors
Autor: Ian M. Robertson, E. P. Hollar, Igor Jenčič
Publikováno v: AIP Conference Proceedings.
Spatially isolated amorphous zones in Si, Ge, GaAs, GaP and InP were created by low dose (≈ 1011 cm−2) 50 keV Xe ion implantations. The ion‐implanted samples were subsequently irradiated with electrons or photons which induced recrystallization
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::263b12808e6d684fdb7a3a429ed86acf
https://doi.org/10.1063/1.1619811
Zobrazit plný text záznamu
6
Crystallization of Isolated Amorphous Zones in Semiconductor Materials
Autor: E. P. Hollar, Igor Jenčič, Ian M. Robertson
Publikováno v: MRS Proceedings. 647
Crystallization of spatially isolated amorphous zones in Si, Ge, GaP, InP and GaAs was stimulated thermally and by irradiation with electrons and photons. The amorphous zones were created by a 50 keV Xe+ implantation. Significant thermal crystallizat
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::8314ae22530cc4ed9c71316f4b43313b
https://doi.org/10.1557/proc-647-o14.4/r9.4
Zobrazit plný text záznamu
7
Electronic Transitions in Mixed Phase Crystalline/Amorphous Silicon in the Low Crystalline Fraction Regime
Autor: E. P. Hollar, Daewon Kwon, John R. Abelson, Ian M. Robertson, J. David Cohen, Hyun-Chul Jin, Chih-Chiang Chen
Publikováno v: MRS Proceedings. 557
Amorphous silicon films were prepared by dc reactive magnetron sputtering under conditions approaching the phase transition to microcrystallinity. Using TEM imaging these films were found to contain clusters of 5 to 50 nm sized Si crystallites embedd
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::02ec3b516f0be7782540d3c637e48e18
https://doi.org/10.1557/proc-557-495
Zobrazit plný text záznamu
8
Orientation and Temperature Dependence of Electron-Induced Crystallization in Si and Ge
Autor: I. Jeničič, E. P. Hollar, Ian M. Robertson
Publikováno v: MRS Proceedings. 540
Si and Ge samples of different substrate orientations were implanted with 50 keV Xe+ ions to a dose around 1011 ions/cm2 where the amorphous zones, created by individual ions, remained spatially isolated. The samples were subsequently irradiated at e
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a67184d88eab15d91224ac750f0c6a06
https://doi.org/10.1557/proc-540-67
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Effect of energy deposition on the disordering kinetics in dual-ion beam irradiated single-crystalline GaAs.
Autor: Debelle, A., Gutierrez, G., Boulle, A., Monnet, I., Thomé, L.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/28/2022, Vol. 132 Issue 8, p1-11, 11p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Defect engineering in GaAs using high energy light ion irradiation: Role of electronic energy loss.
Autor: Kabiraj, D., Ghosh, Subhasis
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Feb2011, Vol. 109 Issue 3, p033701, 6p, 1 Diagram, 6 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
  • 1
  • 2
  • Další »
  • [2]

Vyhledávací nástroje:

  • RSS
  • Poslat e-mailem

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje
Pouze tištěné dokumenty
Zahrnout EIZ
  • 6 Akademické články
  • 4 Konferenční materiály
  • 8 amorphous solid
  • 8 materials science
  • 7 irradiation
  • 5 analytical chemistry
  • 4 crystallization
  • 4 electron
  • 4 law
  • 4 law.invention
  • 4 threshold displacement energy
  • 4 transmission electron microscopy
  • 3 business
  • 3 business.industry
  • 3 chemistry
  • 3 chemistry.chemical_element
  • 3 ion
  • 3 silicon
  • 2 amorphous silicon
  • 2 chemistry.chemical_compound
  • 2 condensed matter physics
  • 2 crystallite
  • 2 crystallographic defect
  • 2 electron beam processing
  • 2 gallium arsenide
  • 2 instrumentation
  • 2 ion implantation
  • 2 molecular physics
  • 2 nanocrystalline silicon
  • 2 nuclear and high energy physics
  • 2 photoconductivity
  • 2 physics::optics
  • 2 recrystallization (metallurgy)
  • 2 semiconductor
  • 1 absorption cross sections
  • 1 amorphization
  • 1 amorphous carbon
  • 1 atomic physics
  • 1 auditing standards
  • 1 band gap
  • 1 crystalline silicon
  • 1 crystallography
  • 1 dangling bond
  • 1 education
  • 1 education.field_of_study
  • 1 empirical research
  • 1 energy dissipation
  • 1 equipment and supplies
  • 1 excavation
  • 1 excitation
  • 1 germanium
  • 1 hydrostatics
  • 4 american institute of physics
  • 4 cambridge university press
  • 3 springer science and business media llc
  • 2 elsevier bv
  • 1 aip
  • 1 american physical society (aps)
  • 1 informa uk limited
  • 1 iop publishing
  • 1 springer nature
  • 4 mrs online proceedings library
  • 3 mrs proceedings
  • 2 journal of applied physics
  • 2 nuclear instruments and methods in physics research section b: beam interactions with materials and atoms
  • 1 aip conference proceedings
  • 1 applied physics letters
  • 1 japanese journal of applied physics
  • 1 journal of chemical physics
  • 1 philosophical magazine
  • 1 physical review b
  • 1 physics of particles & nuclei letters
  • 10 Complementary Index
  • 8 OpenAIRE

Možnosti vyhledávání

  • Tematická mapa
  • Historie vyhledávání
  • Pokročilé vyhledávání

Objevte více

  • Abecední procházení

Hledáte pomoc?

  • Tipy pro vyhledávání
načítá se......