Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"E VanBesien"'
Autor:
Youssef Travaly, O. Richard, E. VanBesien, Gerald Beyer, Romano Hoofman, Roel Daamen, Marianna Pantouvaki, Henny Volders, M. Willegems, Elisabeth Camerotto, Aurelie Humbert, Kristof Kellens
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 85:2071-2074
A sacrificial material deposited by CVD is used to demonstrate air gap formation in single damascene structures by UV-assisted decomposition. The material is removed through a porous low-k cap, after completion of the damascene scheme. The porosity o
Autor:
Gerald Beyer, Erik Sleeckx, J. VanOlmen, Kristof Croes, C.H. Yu, Marianna Pantouvaki, Chao Zhao, T. I. Bao, H. C. Chen, C.S. Liu, E. VanBesien
Publikováno v:
2008 International Interconnect Technology Conference.
Self aligned CuGeN barriers are used to improve the adhesion of Cu/SiC(N) interfaces at N45 technology. Eight times of electro-migration (EM) lifetime improvement has been demonstrated using thin CuGeN as a capping layer. Less than 5% metal lines Rs
Autor:
E VanBesien, M.P.M Marques
Publikováno v:
Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal
Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP)
instacron:RCAAP
Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (RCAAP)
instacron:RCAAP
A complete conformational analysis of caffeic acid, a phenolic derivative with well known antioxidant properties, was carried out by ab initio calculations, at the density funtional theory (DFT) level. Fourteen different conformers were obtained, the
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::5df3ce1784aaedd0ac630e8b0688455b
https://hdl.handle.net/10316/45156
https://hdl.handle.net/10316/45156
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.