Ion bombardment and temperature effects on the microstructure of RF plasma chemical vapor-deposited SiC:H

Autor: Thomas, L. ^*, Ducarroir, M., Hillel, R., Berjoan, R.

Publikováno v: In Surface & Coatings Technology 2001 142:829-834

Propriétés mécaniques des films minces : Problématiques et moyens de mesure = Mechanical properties of thin films: Problems and testing techniques

Autor: Felder, Eric, Ramond-Angelelis, Céline, Ducarroir, M., Ignat, M., Mazot, P.

Publikováno v: Annales de Chimie-Science des Matériaux
Annales de Chimie-Science des Matériaux, Lavoisier, 1998, 23 (5-6), pp.Pages 791-819. ⟨10.1016/S0151-9107(99)80023-3⟩

Meeting of Annales de Chimie Science des Materiaux on Hard and Adherent Coatings by Chemical Vapour Deposition, Perpignan, 11/09/1998; International audience; Le but de ce travail est de caractériser le comportement mécanique d'un couple dépôt c�

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::a433b195a9ee244e3467eb283ed375d2
https://hal-mines-paristech.archives-ouvertes.fr/hal-00618441

Auger electron spectroscopy of compounds in the Si-Ti-C system : characterization of Si-Ti-C multiphased materials obtained by CVD

Autor: Maline, M., Ducarroir, M., Teyssandier, F., Hillel, R., Berjoan, R., Loo, van, F.J.J., Wakelkamp, W.J.J.

Publikováno v: Surface Science, 286(1-2), 82-91. Elsevier

Auger peak-position and line-shape analyses of the Si LVV, Si KLL, C KVV, and Ti LMM transitions for the ref. compds. Ti, Si, SiC, TiC, TiC0.72, TiSi2, Ti5Si3(C), and Ti3SiC2, belonging to the ternary Si-Ti-C system have been performed. The results s

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::75749a14293c74e96d3ef1e7b096e23a
https://research.tue.nl/nl/publications/f7f61c91-6756-4d5d-8225-bcd27c782c20

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.