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pro vyhledávání: '"Driemeier, Carlos Eduardo"'
Autor:
de Menezes, Fabrícia Farias, Martim, Damaris Batistão, Ling, Liu Yi, Mulato, Aline Tieppo Nogueira, Crespim, Elaine, de Castro Oliveira, Juliana Velasco, Driemeier, Carlos Eduardo, de Giuseppe, Priscila Oliveira, de Moraes Rocha, George Jackson
Publikováno v:
In International Journal of Biological Macromolecules 31 December 2022 223 Part A:223-230
Físico-química do hidrogênio em óxidos e silicatos de háfnio para aplicação como dielétrico de porta
Autor:
Driemeier, Carlos Eduardo
Publikováno v:
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFRGSUniversidade Federal do Rio Grande do SulUFRGS.
Após quatro décadas de sucesso do SiO2 (e SiOxNy), as novas gerações de Transistores de Efeito de Campo Metal-Óxido-Semicondutor utilizarão dielétricos de porta de materiais alternativos, dentre os quais se destacam o óxido (HfO2) e os silica
Externí odkaz:
http://hdl.handle.net/10183/12108
Autor:
Driemeier, Carlos Eduardo
Publikováno v:
Repositório Institucional da USP (Biblioteca Digital da Produção Intelectual)
Universidade de São Paulo (USP)
instacron:USP
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instacron:USP
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::014b7088e2143f63c03c8dd41122d1e7
https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acssuschemeng.7b04158
https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acssuschemeng.7b04158
Akademický článek
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Autor:
Driemeier, Carlos Eduardo
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Universidade de São Paulo (USP)
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::2fb43dcc7eec4e1221d5a273f584b7f7
http://www.revistaopapel.org.br/edicoes_impressas/67.pdf
http://www.revistaopapel.org.br/edicoes_impressas/67.pdf
Autor:
Driemeier, Carlos Eduardo
Publikováno v:
Repositório Institucional da USP (Biblioteca Digital da Produção Intelectual)
Universidade de São Paulo (USP)
instacron:USP
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::606d4fd8dfc4369484ae6e1a07226ee6
https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/jf401243c
https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/jf401243c
Autor:
Maeda, Roberto Nobuyuki, Serpa, Viviane Isabel, Rocha, Vanessa Alves Lima, Mesquita, Renata Aparecida Alves, Anna, Lidia Maria Melo Santa, de Castro, Aline Machado, Driemeier, Carlos Eduardo, Pereira, Nei, Jr., Polikarpov, Igor
Publikováno v:
In Process Biochemistry May 2011 46(5):1196-1201
Autor:
Fonseca, Leonardo R. C., Xavier Jr., A. L., Ribeiro Jr., Marcelo, Driemeier, Carlos Eduardo, Baumvol, Israel Jacob Rabin
Publikováno v:
Repositório Institucional da UFRGS
Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
instacron:UFRGS
Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
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Isotopic substitution, nuclear reaction analysis, and x-ray photoelectron spectroscopy were employed to show that oxygen-deficient hafnium (Hf) silicates trap hydrogen atoms. Based on this experimental observation, we used first-principles calculatio
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::5d26c86f9ab66f8a6f73f5de7d99b694
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Repositório Institucional da UFRGS
Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
instacron:UFRGS
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HfO2 /SiO2/Si 001 thin film structures were exposed at room temperature to water vapor isotopically enriched in 2H and 18O followed by quantification and profiling of these nuclides by nuclear reaction analysis. We showed i the formation of strongly
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::5f472740eae97a8661e36e563cd22240
Autor:
Driemeier, Carlos Eduardo, Miotti, Leonardo, Radtke, Claudio, Gusev, Evgeni P., Kim, M.J., Wallace, Robert M.
Publikováno v:
Repositório Institucional da UFRGS
Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
instacron:UFRGS
Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
instacron:UFRGS
HfO2 films 2.5 to 12 nm deposited on thermal SiO2 1.5 nm on Si were annealed in deuterium gas at 400–600 °C and incorporated D amounts were quantified using the D 3He, p 4He nuclear reaction.We found 1013 D cm−2 in the SiO2 interlayer region and
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3056::b2d32bf6b267f612e72b7362644434fd