Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Don Bruner"'
Autor:
Susan M. Holl, Fu-Chang Lo, Andrew Grenville, Raghu Balasubramanian, John M. Hutchinson, Jun-Fei Zheng, Eric M. Panning, Kevin J. Orvek, Don Bruner, Veena Rao, Joseph C. Langston, Giang T. Dao, Ling Liao, Ronald Kuse
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Intel is aggressively pursuing the use of 157 nm lithography for the 0.1 mm patterning node. Two areas of concentration have been in photoresist and reticle materials development. Over the six months, we have seen considerable progress in new materia
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::46fbd74da78a14d9bddeeb520947971a
https://doi.org/10.1117/12.389005
https://doi.org/10.1117/12.389005
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.