Zobrazeno 1 - 10
of 142
pro vyhledávání: '"Direct temperature monitoring"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Taro Kamiya, Masahiko Izumizaki, Hiroki Den, Yurika Yoshida, Katsumi Mizuno, Kazuna Furukawa, Minami Azuma
Publikováno v:
Journal of Human Lactation. 38:323-331
Background: Microwave heating can be effective in preventing cytomegalovirus infection transmitted via human milk. Temperature changes during microwaving using different containers, in different areas inside a container, or using milk from different
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::2acad93ab6e94dacd4d54a30b4ccbbf1
https://doi.org/10.1177/08903344211047452
https://doi.org/10.1177/08903344211047452
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of biological regulators and homeostatic agents. 31(2)
We discuss the physical mechanisms of microwave heating of milk and infant formulas, and possible causes of nutrient degradation and scalds of infants reported in a number of papers. We list the advantages of microwave heating, formulate criteria of
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=pmid________::c7b086ff00d937a11f8a713e055131da
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/28685536
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/28685536
Autor:
Paul K. Chu, Xiubo Tian
Publikováno v:
Review of Scientific Instruments. 71:2839-2842
In situ temperature monitoring is extremely important in plasma immersion ion implantation (PIII) of semiconductors. For instance, the silicon wafer must be heated to 600 °C or higher in separation by plasma implantation of oxygen, and in the PIII/i
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::87f57182422b6cf1a5e9c30d0acedfd2
https://doi.org/10.1063/1.1150700
https://doi.org/10.1063/1.1150700
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.