Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Dianne L. Sundling"'
Autor:
James A. Bruce, Dianne L. Sundling, William C. Leipold, William M. Chu, Anne E. McGuire, Scott M. Mansfield, Lars W. Liebmann, Michael Cross, Ioana Graur, Joshua J. Krueger
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Sub-resolution assist features (SRAF) have been shown to provide significant process window enhancement and across chip line-width variation reduction when used in conjunction with modified illumination lithography. Work previously presented at this
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::28d4188effe8b18c3ff569e2345e8974
https://doi.org/10.1117/12.435690
https://doi.org/10.1117/12.435690
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
A plasma-enhanced chemically vapor deposited (PECVD) silicon oxynitride (Si-O-N) was used in a 3-layer resist system in combination with a 0.42 na lens to provide device process developers with a means for extending photolithography down to 0.5 pm fe
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::737997d85375660dd47cb1a2b1f7acd4
https://doi.org/10.1117/12.947819
https://doi.org/10.1117/12.947819
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.