Zobrazeno 1 - 9 of 9 pro vyhledávání: '"Dewan, M. N. A."'
1
Akademický článek
Plasma modeling for a nonsymmetric capacitive discharge driven by a nonsinusoidal radio frequency current.
Autor: Dewan, M. N. A., McNally, P. J., Herbert, P. A. F.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; May2002, Vol. 91 Issue 9, p5604, 10p, 3 Diagrams, 2 Charts, 4 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
6
Conference
Analytical modeling of collisionless triple frequency capacitive sheath.
Autor: Rahman, M. T., Dewan, M. N. A., Chowdhury, M. R. H.
Publikováno v: 2012 7th International Conference on Electrical & Computer Engineering; 1/ 1/2012, p717-720, 4p
Zobrazit plný text záznamu
7
Conference
Modeling of a collisional triple frequency capacitively coupled plasma sheath.
Autor: Rahman, M. T., Dewan, M. N. A., Chowdhury, M. R. H.
Publikováno v: 2012 7th International Conference on Electrical & Computer Engineering; 1/ 1/2012, p721-724, 4p
Zobrazit plný text záznamu
8
Periodical
Use of plasma impedance monitoring for the determination of SF6 reactive ion etch process end points in a SiO2/Si system
Autor: Dewan, M. N. A., McNally, P. J., Perova, T., Herbert, P. A. F.
Publikováno v: Materials Research Innovations; 20011001, Vol. 5 Issue: 2 p107-116, 10p
Zobrazit plný text záznamu
9
Periodical
Modeling of harmonic contributions to non-symmetrical RF plasmas
Autor: Dewan, M. N., McNally, P. J., Herbert, P. A.
Publikováno v: Journal of Materials Processing Technology; 2001, Vol. 118 Issue: 1 p343-349, 7p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje