Zobrazeno 1 - 10
of 119
pro vyhledávání: '"Design for manufacturing (DFM)"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Microelectronic Manufacturing, Vol 3, Iss 1 (2020)
As the IC manufacturing enter sub 20nm tech nodes, DFM become more and more important to make sure more stable yield and lower cost. However, by introducing newly designed hardware (1980i etc.) process chemical (NTD) and Control Algorithm (Focus APC)
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/d1adc96e487945ccabdfee4e2d1cb902
Autor:
Horn, Alexander, Schenk, Hannes
In laboratory work and working with Biotage’s Selekt Enkel chromatography system, it is common that operators are exposed to harmful and bad-smelling solvents gases. These are common issues that Biotage wants the students to solve. For this thesis
Externí odkaz:
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-507469
Kundanpassning är ett ökande problem för tillverkare och det gäller även för Zetterbergs därproblemet nu är att konstruera lastbilsprodukter som ska passa till alla kunder vars lastbils-fabrikat varierar. Syftet med studien var att utveckla C
Externí odkaz:
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-504942
Publikováno v:
Tehnika, Vol 69, Iss 2, Pp 233-242 (2014)
Design for eXcellence (DfX) represent methodology which aims to define and implement a series of demands which enables the development of optimal product in terms of its manufacturing (DfM), assembly (DfA), disassembly (DfD), environmental impact (Df
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/bebe9d8fa8ed46948457b30f9c14cd75
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Hongmei Hu, Chan Yuan Hu, Wei Yuan, Hung Wen Chao, Xiang Peng, Yu Zhang, Lu Yifei, Wenzhan Zhou
Publikováno v:
Journal of Microelectronic Manufacturing, Vol 3, Iss 1 (2020)
As the IC manufacturing enter sub 20nm tech nodes, DFM become more and more important to make sure more stable yield and lower cost. However, by introducing newly designed hardware (1980i etc.) process chemical (NTD) and Control Algorithm (Focus APC)
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::22383c8c3bd5ec129e75c3900b2cbe17
https://doi.org/10.33079/jomm.20030101
https://doi.org/10.33079/jomm.20030101
Autor:
Mattia Mele, Giampaolo Campana
Additive manufacturing processes are experiencing extraordinary growth in present years. Concerning the production of goods by using this technology, expertise and know-how are today relevant while process simulation needs to be extensively validated
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::e9593d8ecc0e8bd198896b4bb597a1a4
http://hdl.handle.net/11585/651585
http://hdl.handle.net/11585/651585
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.