Zobrazeno 1 - 10
of 67
pro vyhledávání: '"David, O. S."'
Publikováno v:
African Journal of Food, Agriculture, Nutrition & Development. Aug2023, Vol. 23 Issue 8, p24317-24345. 29p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Alan M. Webb, Jeffrey O. Kephjart, Danny Soroker, Thomas D. Erikson, David O. S. Melville, Shari Trewin, Rachel K. E. Bellamy, Daniel M. Gruen, Jonathan H. Connell, Robert G. Farrell, Andy Aaron, Jason B. Ellis, Dario Gil, Michael Muller, Brian P. Gaucher, Maryam Ashoori, Jonathan Lenchner
Publikováno v:
AI Magazine; Vol 37, No 3: Fall 2016; 81-93
IBM Research is engaged in a research program in symbiotic cognitive computing to investigate how to embed cognitive computing in physical spaces. This article proposes 5 key principles of symbiotic cognitive computing. We describe how these principl
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Physica B: Condensed Matter. 394:197-202
An analytical method based on transmission matrices is used to study the imaging performance of multilayer silver superlenses for near-field optical lithography. The spatial-frequency transfer functions of these systems show complex structure, and th
Publikováno v:
Current Applied Physics. 6:415-418
The resolution of a near-field lithography technique that uses a planar silver lens to form a near-field image has been investigated and compared with hard-contact lithography. Sub-diffraction-limited imaging has been observed through a 50 nm silver
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 83:723-729
The near-field imaging properties of planar silver layers are reviewed here, with a view to identifying their potential and pitfalls for sub-100nm photolithography. Initial studies have shown that half-pitch features of 60-70nm can be achieved using
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.