Zobrazeno 1 - 10
of 22
pro vyhledávání: '"Dai, Saifei"'
Autor:
Hu, Tao, Shao, Xianzhou, Bai, Mingkai, Jia, Xinpei, Dai, Saifei, Sun, Xiaoqing, Han, Runhao, Yang, Jia, Ke, Xiaoyu, Tian, Fengbin, Yang, Shuai, Chai, Junshuai, Xu, Hao, Wang, Xiaolei, Wang, Wenwu, Ye, Tianchun
We study the impact of top SiO2 interlayer thickness on the memory window (MW) of Si channel ferroelectric field-effect transistor (FeFET) with TiN/SiO2/Hf0.5Zr0.5O2/SiOx/Si (MIFIS) gate structure. We find that the MW increases with the increasing th
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2406.15478
Autor:
Hu, Tao, Shao, Xianzhou, Bai, Mingkai, Jia, Xinpei, Dai, Saifei, Sun, Xiaoqing, Han, Runhao, Yang, Jia, Ke, Xiaoyu, Tian, Fengbin, Yang, Shuai, Chai, Junshuai, Xu, Hao, Wang, Xiaolei, Wang, Wenwu, Ye, Tianchun
We study the impact of top SiO2 interlayer thickness on memory window of Si channel FeFET with TiN/SiO2/Hf0.5Zr0.5O2/SiOx/Si (MIFIS) gate structure. The memory window increases with thicker top SiO2. We realize the memory window of 6.3 V for 3.4 nm t
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2404.15825
Autor:
Hu, Tao, Sun, Xiaoqing, Bai, Mingkai, Jia, Xinpei, Dai, Saifei, Li, Tingting, Han, Runhao, Ding, Yajing, Fan, Hongyang, Zhao, Yuanyuan, Chai, Junshuai, Xu, Hao, Si, Mengwei, Wang, Xiaolei, Wang, Wenwu
In this work, we demonstrate the enlargement of the memory window of Si channel FeFET with ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 by gate-side dielectric interlayer engineering. By inserting an Al2O3 dielectric interlayer between TiN gate metal and ferroelectric
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2312.16829
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Journal of Magnetism and Magnetic Materials 15 October 2021 536
Publikováno v:
In Journal of Magnetism and Magnetic Materials 1 October 2021 535