Experimental and Monte-Carlo study of double-hump electron emission yield curves of SiO2 thin films.

Autor: Gibaru, Q., Inguimbert, C., Belhaj, M., Dadouch, S., Raine, M., Lambert, D., Payan, D.

Publikováno v: Journal of Applied Physics; 4/7/2023, Vol. 133 Issue 13, p1-10, 10p

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Study of required conditions to limit the dielectric charging phenomenon when measuring the electron emission yield from thin dielectric layers

Autor: Rigoudy, Charles, Makasheva, Kremena, Teyssedre, G., Boudou, Laurent, Belhaj, M., Dadouch, S.

Publikováno v: 2018 IEEE 2nd International Conference on Dielectrics (ICD)
2018 IEEE 2nd International Conference on Dielectrics (ICD), Jul 2018, Budapest, Hungary. pp.1-4, ⟨10.1109/ICD.2018.8468360⟩

International audience; The electron emission yield of materials is an important quantity to be determined in various fields of physics. Among them, dielectric materials have a strong ability to retain charges and remain charged when submitted to ele

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ee0ba52d35f12a65a3451567a89ea519
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02324382/document

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.