Zobrazeno 1 - 10
of 56 834
pro vyhledávání: '"DECKERT, A."'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Kabat, Alan R.
Publikováno v:
Archives of Natural History. Oct2012, Vol. 39 Issue 2, p321-337. 17p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Alastair Wilson
Publikováno v:
Dialectica, Vol 999, Iss 1 (2022)
Michael Esfeld & Dirk-André Deckert, A Minimalist Ontology of the Natural World. New York/Abingdon: Routledge, 2018.
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/344f65d591c14f32abb7eebf6252d0ab
Autor:
Rossetti, Andrea, Hu, Huatian, Venanzi, Tommaso, Bousseksou, Adel, De Luca, Federico, Deckert, Thomas, Giliberti, Valeria, Pea, Marialilia, Sagnes, Isabelle, Beaudoin, Gregoire, Biagioni, Paolo, Baù, Enrico, Maier, Stefan A., Tittl, Andreas, Brida, Daniele, Colombelli, Raffaele, Ortolani, Michele, Ciracì, Cristian
The development of nanoscale nonlinear elements in photonic integrated circuits is hindered by the physical limits to the nonlinear optical response of dielectrics, which requires that the interacting waves propagate in transparent volumes for distan
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2402.15443
Autor:
Trautmann, Frederic
Publikováno v:
Louisiana History: The Journal of the Louisiana Historical Association, 1984 Jan 01. 25(1), 79-98.
Externí odkaz:
https://www.jstor.org/stable/4232330
Publikováno v:
The Virginia Law Register, 1903 Dec 01. 9(8), 701-708.
Externí odkaz:
https://www.jstor.org/stable/1100884
Publikováno v:
The American Law Register (1852-1891), 1874 Oct 01. 22(10), 624-630.
Externí odkaz:
https://www.jstor.org/stable/3303599
Autor:
Wang, Wei, Hübner, Uwe, Chen, Tao, Gärtner, Anne, Köbel, Joseph, Jahn, Franka, Schneidwind, Henrik, Dellith, Andrea, Dellith, Jan, Wieduwilt, Torsten, Zeisberger, Matthias, Shaik, Tanveer Ahmed, Bingel, Astrid, Schmidt, Markus A, Huang, Jer-Shing, Deckert, Volker
The rise of micro/nanooptics and lab-on-chip devices demands the fabrication of three-dimensional structures with decent resolution. Here, we demonstrate the combination of grayscale electron beam lithography and direct forming methodology to fabrica
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2401.13427