Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"D.W. Castillo"'
Autor:
J. Van Aelst, Sergio Lucero, Werner Boullart, Geert Mannaert, Erik Sleeckx, Iwan Vervoort, R. A Donaton, Joost Waeterloos, Herbert Struyf, B. Sijmus, Marc Schaekers, Rudy Caluwaerts, Z. Tokel, Francesca Iacopi, Serge Vanhaelemeersch, M. Van Hove, Carine Alaerts, Marc Meuris, I. Vos, Karen Maex, J. Steenbergen, D.W. Castillo
Publikováno v:
Proceedings of the IEEE 2001 International Interconnect Technology Conference (Cat. No.01EX461).
The feasibility of integrating a SiLK* Semiconductor Dielectric film (*trademark of The Dow Chemical Company) that contains closed pores was studied using a single damascene test vehicle. The study focussed on tool qualification, process set-up and s
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4f6ad1a45f828e25bffb3cf0bee1251c
https://doi.org/10.1109/iitc.2001.930076
https://doi.org/10.1109/iitc.2001.930076
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.