Zobrazeno 1 - 10
of 19
pro vyhledávání: '"D.R. Knebel"'
Autor:
Barry J. Rubin, Robert H. Dennard, Wiren D. Becker, T. Gallo, L.M. Terman, R.P. Dunne, Howard H. Smith, Phillip J. Restle, George A. Katopis, D.R. Knebel, Gerard V. Kopcsay, George Anthony Sai-Halasz, Paul W. Coteus, C.W. Surovic, Alina Deutsch, Byron L. Krauter, Keith A. Jenkins
Publikováno v:
IEEE Transactions on Microwave Theory and Techniques. 45:1836-1846
Short, medium, and long on-chip interconnections having linewidths of 0.45-52 /spl mu/m are analyzed in a five-metal-layer structure. We study capacitive coupling for short lines, inductive coupling for medium-length lines, inductance and resistance
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c6626ea00cc442c6620ad368ef1f3541
https://doi.org/10.1109/22.641781
https://doi.org/10.1109/22.641781
Autor:
Barry J. Rubin, L.M. Terman, R.P. Dunne, D.R. Knebel, G.V. Kopcsay, George Anthony Sai-Halasz, Byron L. Krauter, P.J. Reslte, T. Gallo, Wiren D. Becker, Paul W. Coteus, Howard H. Smith, George A. Katopis, C.W. Surovic, Alina Deutsch
Publikováno v:
Electrical Performance of Electronic Packaging.
The importance of inductance and inductive coupling for accurate delay and crosstalk prediction in on-chip interconnections is investigated experimentally for the top three layers in a five-layer wiring structure and guidelines are formulated. In-pla
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fb56e5c4fc5e11c0a7a0682c421775b5
https://doi.org/10.1109/epep.1997.634037
https://doi.org/10.1109/epep.1997.634037
Autor:
Wiren D. Becker, George Anthony Sai-Halasz, Keith A. Jenkins, Barry J. Rubin, George A. Katopis, Alina Deutsch, D.R. Knebel, C.W. Surovic, T. Gallo, Phillip J. Restle, G.V. Kopcsay, Paul W. Coteus, Howard H. Smith, Robert H. Dennard, L.M. Terman, R.P. Dunne
Publikováno v:
1997 Proceedings 47th Electronic Components and Technology Conference.
Short, medium and long on-chip interconnections having line widths of 0.45-52 /spl mu/m are analyzed in a five-metal-layer structure. We study capacitive coupling for short lines, inductive coupling for medium-length lines, inductance and resistance
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::829279c2419dcf5bf3525a523ab6965a
https://doi.org/10.1109/ectc.1997.606248
https://doi.org/10.1109/ectc.1997.606248
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.