Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"D.A. Moniot"'
Autor:
K. M. Young, Scott Edward Beck, A.A. Badowski, D.A. Moniot, David Arthur Bohling, M.A. George, Eric Anthony Robertson
Publikováno v:
IEEE/SEMI 1996 Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop. Theme-Innovative Approaches to Growth in the Semiconductor Industry. ASMC 96 Proceedings.
A novel vapor phase clean is shown to be a viable method for removing copper and iron from wafer surfaces. Utilizing thin films and sub-monolayer samples of copper and iron on Si or SiO/sub 2/ substrates the reaction of 1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pen
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3f1eeaf91ec512f474e0d825a2eaa185
https://doi.org/10.1109/asmc.1996.557992
https://doi.org/10.1109/asmc.1996.557992
Publikováno v:
MRS Proceedings. 440
Despite the growing use of atomic force microscopy (AFM) for the measurement of silicon wafer microroughness, no generally accepted method has been developed to deal with issues around accuracy and reproducibility. We review problems that affect thes
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d6a562348ddc6bd39650614b47fa106b
https://doi.org/10.1557/proc-440-83
https://doi.org/10.1557/proc-440-83
Autor:
K. M. Young, Eric Anthony Robertson, M. A. George, J. L. Waskiewicz, D.A. Moniot, David Arthur Bohling, Scott Edward Beck
Publikováno v:
Electrochemical and Solid-State Letters. 1:235
Sodium is removed from silicon wafer surfaces by a vapor phase method utilizing the chelation compound 1,1,1,5,5,5-hexafluoro2,4-pentanedione (H+ hfac). At a total pressure of 7.6 Torr, sodium is removed from the wafer surface at temperatures above 1
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::355ef06014e1610d131ea940946a39aa
https://doi.org/10.1149/1.1390697
https://doi.org/10.1149/1.1390697
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.