Zobrazeno 1 - 10
of 2 893
pro vyhledávání: '"D. van den Heuvel"'
Autor:
Wantje Fritschy
Publikováno v:
BMGN: Low Countries Historical Review, Vol 124, Iss 3, Pp 471-473 (2009)
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/fa5fb0662cdf4dfc86f61aa4bceefaf7
Autor:
B.C. Meijerman
Publikováno v:
BMGN: Low Countries Historical Review, Vol 121, Iss 2 (2006)
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/a554f09a81f0432f9f0034b6763cc993
Autor:
Van Damme, Ilja
Publikováno v:
TSEG : tijdschrift voor sociale en economische geschiedenis
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______2097::5cfeefb0085119c752c86edbfca5ae91
https://hdl.handle.net/10067/865440151162165141
https://hdl.handle.net/10067/865440151162165141
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Philippe Leray, Valentina Spampinato, R. Koret, Alain Moussa, Ilse Hoflijk, J. Hung, Y. Muraki, Thomas Nuytten, Janusz Bogdanowicz, Johan Meersschaut, Alexis Franquet, Stefanie Sergeant, Yusuke Oniki, N. Claessens, Thierry Conard, Karine Kenis, Anne-Laure Charley, D. Van den Heuvel
Publikováno v:
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV.
Nanosheet Field-Effect Transistors (FETs) are candidates to replace today’s finFETs as they offer both an enhanced electrostatic control and a reduced footprint. The processing of these devices involves the selective lateral etching, also called ca
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ac9351cae9d7e2b039311645714042ac
https://doi.org/10.1117/12.2581800
https://doi.org/10.1117/12.2581800
Autor:
Francina J Smits, AC Henry, CH van Eijck, MG Besselink, OR Busch, M Arntz, TL Bollen, OM van Delden, D van den Heuvel, C van der Leij, KP van Lienden, A Moelker, BA Bonsing, IHM Borel Rinkes, K Bosscha, RM van Dam, S Festen, B Groot Koerkamp, E van der Harst, I de Hingh, G Kazemier, M Liem, BM van der Kolk, VE de Meijer, GA Patijn, D Roos, JM Schreinemakers, F Wit, CH van Werkhoven, IQ Molenaar, HC van Santvoort
Background Pancreatic resection is a major abdominal operation with 50% risk of postoperative complications. A common complication is pancreatic fistula, which may have severe clinical consequences such as postoperative bleeding, organ-failure and de
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::8ad35696de70d5fc63c9fd1b39f577dd
https://doi.org/10.21203/rs.2.19292/v2
https://doi.org/10.21203/rs.2.19292/v2
