Zobrazeno 1 - 10 of 182 pro vyhledávání: '"D. Uesugi"'
3
Surface Modification of Si Wafer by Low-Pressure High-Frequency Plasma Chemical Vapor Deposition Method
Autor: Hiroshi Akatsuka, N. Kashihara, H. Kataoka, Narong Mungkung, Yoshifumi Suzaki, Yuichi Kiyota, M. Kawano, T. Yuji, D. Uesugi, Kenichi Nakabayashi
Publikováno v: IEEE Trans. Plasma Sci.. 39(No. 6):1427-1431
In recent years, a flexible type of solar cell that can maintain various shape changes and that is applicable to virtually all products has attracted global attention. In the present research, we describe equipment for the production of thin-film mat
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::cccfa66623ed97e4ff5d965d055269e1
http://t2r2.star.titech.ac.jp/cgi-bin/publicationinfo.cgi?q_publication_content_number=CTT100624081
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Impact of Temperature and Substrate Type on the Optical and Structural Properties of AlN Epilayers: A Cross-Sectional Analysis Using Advanced Characterization Techniques.
Autor: Wei, Wenwang1 (AUTHOR), Peng, Yi2 (AUTHOR), Hu, Yuefang1 (AUTHOR), Xu, Xiuning1 (AUTHOR) bskl9398@outlook.com, Xie, Quanwen1 (AUTHOR) bskl9398@outlook.com
Publikováno v: Molecules. Nov2024, Vol. 29 Issue 22, p5249. 14p.
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Neutron phase filtering for separating phase- and attenuation signal in aluminium and anodic aluminium oxide.
Autor: Naver, Estrid Buhl1 (AUTHOR) ebna@dtu.dk, Yetik, Okan2 (AUTHOR), Ott, Noémie3 (AUTHOR), Busi, Matteo2 (AUTHOR), Trtik, Pavel2 (AUTHOR), Theil Kuhn, Luise1 (AUTHOR), Strobl, Markus2 (AUTHOR)
Publikováno v: Scientific Reports. 10/16/2024, Vol. 14 Issue 1, p1-11. 11p.
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Micro computed tomography analysis of barley during the first 24 hours of germination.
Autor: Doolan, Olivia1 (AUTHOR) O.Doolan@shu.ac.uk, Lewsey, Mathew G.2,3,4 (AUTHOR), Peirats-Llobet, Marta2 (AUTHOR), Bricklebank, Neil1 (AUTHOR), Aberdein, Nicola1 (AUTHOR)
Publikováno v: Plant Methods. 9/16/2024, Vol. 20 Issue 1, p1-16. 16p.
Zobrazit plný text záznamu
7
Surface modification of silicon wafer by low-pressure high-frequency plasma chemical vapor deposition method
Autor: Narong Mungkung, H. Kataoka, Kenichi Nakabayashi, M. Kawano, N. Kashihara, T. Bouno, Yoshifumi Suzaki, Yuichi Kiyota, K. Sakai, Toshifumi Yuji, D. Uesugi, Hiroshi Akatsuka, H. Shibata
Publikováno v: 24th ISDEIV 2010.
The writers are developing the production process device of thin-film material for the flexible solar cells using the high-frequency plasma chemical vapor deposition (CVD) method. In order to clarify the characteristics of the device, plasma treatmen
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::4a0ad63d125e68e3ca8643d1dcf4f456
https://doi.org/10.1109/deiv.2010.5625758
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
10
Akademický článek
X-ray phase contrast reveals soft tissue and shell growth lines in mollusks.
Autor: Häggmark, Ilian1 (AUTHOR) ilianh@um.u-tokyo.ac.jp, Hoshino, Masato2 (AUTHOR), Uesugi, Kentaro2 (AUTHOR), Sasaki, Takenori1 (AUTHOR)
Publikováno v: Communications Biology. 1/3/2024, Vol. 7 Issue 1, p1-9. 9p.
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje