Intel 4 CMOS Technology Featuring Advanced FinFET Transistors optimized for High Density and High-Performance Computing

Autor: B. Sell, S. An, J. Armstrong, D. Bahr, B. Bains, R. Bambery, K. Bang, D. Basu, S. Bendapudi, D. Bergstrom, R. Bhandavat, S. Bhowmick, M. Buehler, D. Caselli, S. Cekli, Vrsk. Chaganti, Y. J. Chang, K. Chikkadi, T. Chu, T. Crimmins, G. Darby, C. Ege, P. Elfick, T. Elko-Hansen, S. Fang, C. Gaddam, M. Ghoneim, H. Gomez, S. Govindaraju, Z. Guo, W. Hafez, M. Haran, M. Hattendorf, S. Hu, A. Jain, S. Jaloviar, M. Jang, J. Kameswaran, V. Kapinus, A. Kennedy, S. Klopcic, D. Krishnan, J. Leib, Y.-T. Lin, N. Lindert, G. Liu, O. Loh, Y. Luo, S. Mani, M. Mleczko, S. Mocherla, P. Packan, M. Paik, A. Paliwal, R. Pandey, K. Patankar, L. Pipes, P. Plekhanov, C. Prasad, M. Prince, G. Ramalingam, R. Ramaswamy, J. Riley, J. R. Sanchez Perez, J. Sandford, A. Sathe, F. Shah, H. Shim, S. Subramanian, S. Tandon, M. Tanniru, D. Thakurta, T. Troeger, X. Wang, C. Ward, A. Welsh, S. Wickramaratne, J. Wnuk, S. Q. Xu, P. Yashar, J. Yaung, K. Yoon, N. Young

Publikováno v: 2022 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits).

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::226c1fc04b9265eb60d875c5c1f4a89c
https://doi.org/10.1109/vlsitechnologyandcir46769.2022.9830194

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.