Zobrazeno 1 - 10
of 60
pro vyhledávání: '"D. Tamboli"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
B. D. Tamboli, S. T. Shinde, A. V. Patil, A. B. Jadhav, A. L. Pharande, G. D. Patil, J. M. Khire
Publikováno v:
Agropedology. 28
An experiment involving sixteen treatments with four levels of phytase (0, 240, 480, 720 IU) and four levels of phosphorus (0, 25, 50, 100 kg ha-1) was carried out during kharif 2017 to assess the availability of phosphorus at 0, 15, 30, 45, 60 and 9
Autor:
D. Tamboli, Wei-Tsu Tseng, Abigail N. Linhart, Jason J. Keleher, Katherine M. Wortman-Otto, Ara Philipossian, Yasa Sampurno
Publikováno v:
ECS Journal of Solid State Science and Technology. 10:064011
Results from a series of post-CMP PVA scrubbing marathon runs performed in a high-volume manufacturing fab are scientifically explained via a series of controlled laboratory tests. The major differences in the ingredients within the cleaning solution
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
International Journal Of Engineering And Computer Science.
Cloud computing is a rising computing standard in which assets of the computing framework are given as a service over the Internet. It delivers new challenges for data security and access control when clients outsource sensitive data for offering on
Publikováno v:
Journal of Materials Science: Materials in Electronics. 15:87-90
Chemical mechanical polishing of tantalum was carried out in alumina-dispersed deionized water, 5% H2O2 as well as 0.25 M KIO3 solution at pH ranging from 1 to 10. High polishing rates were observed in H2O2-containing slurry at low pH values, while K
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Electrochemical and Solid-State Letters. 7:F62
The dependence of chemical mechanical polishing (CMP) performance on particle size and particle concentration was examined. Material removal per abrasive particle is a useful parameter in comparing performance of different abrasives. Impact of partic
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.