Zobrazeno 1 - 10
of 97
pro vyhledávání: '"D. Serkland"'
Publikováno v:
Applied Physics A. 99:777-782
A lithographic patterning process for Foturan® is demonstrated that optimizes the aspect ratio and side-wall roughness and eliminates all traces of white redeposit on the side walls. The structures may then be run through a post-etch anneal to furth
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e7a25e25695bb357b768affac9dbf225
https://doi.org/10.1007/s00339-010-5721-1
https://doi.org/10.1007/s00339-010-5721-1
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
IEEE Photonics Technology Letters; 3/1/2006, Vol. 18 Issue 5, p685-687, 3p
Autor:
John D. Serkland
Publikováno v:
Care Giver. 2:14-16
(1985). Record Keeping that Tells a Chaplain's Story. Care Giver: Vol. 2, No. 1, pp. 14-16.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::5722443ca4c03fd7c268825d9b9ff8ee
https://doi.org/10.1080/10778586.1985.10767494
https://doi.org/10.1080/10778586.1985.10767494
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Periodical
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Applied Physics Letters; 7/4/2022, Vol. 121 Issue 1, p1-5, 5p
Publikováno v:
IEEE Photonics Journal; Jun2022, Vol. 14 Issue 3, p1-6, 6p