Zobrazeno 1 - 10
of 10
pro vyhledávání: '"D. Rathei"'
Publikováno v:
2008 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference.
The use of product test data for manufacturing control has been repeatedly suggested in various papers and talks [1,2], and a working implementation has been presented by some of us using the YieldWatchDogTM software [3]. This paper presents a case s
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::103446afdaa5d457090e0278a885b28c
https://doi.org/10.1109/asmc.2008.4529035
https://doi.org/10.1109/asmc.2008.4529035
Publikováno v:
2007 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC).
We report about a feasibility study regarding multivariate test data monitoring. Since electrical test data (e.g. wafer sort data) consist often of dozens of correlated parameters, the application of a multivariate yield control concept seems to be i
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f88048c2e0350105f7fee61884426e6a
https://doi.org/10.1109/asmc.2007.375120
https://doi.org/10.1109/asmc.2007.375120
Publikováno v:
The 17th Annual SEMI/IEEE ASMC 2006 Conference.
We aligned experience from yield analysis with knowledge from aerosol physics and found strong evidence that semiconductor manufacturers have face a new category of particles in the next technology nodes at and below 65nm
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d75fec427bfb15432b3a1ad16d7ef9fa
https://doi.org/10.1109/asmc.2006.1638787
https://doi.org/10.1109/asmc.2006.1638787
Autor:
D. Rathei, Rainer Minixhofer
Publikováno v:
IEEE/SEMI Conference and Workshop on Advanced Semiconductor Manufacturing 2005..
So far, TCAD simulation has been extensively used for process development, but its application for manufacturing control and corrective action was very limited. In this paper we show that TCAD can also be very beneficially used for identifying manufa
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::910d1ca1b80cba4cafaa5f6160dc3868
https://doi.org/10.1109/asmc.2005.1438794
https://doi.org/10.1109/asmc.2005.1438794
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.