Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"D. Minyushkin"'
Autor:
D. Minyushkin, William J. Dauksher, V.V. Ivin, M.V. Silakov, Kevin J. Nordquist, Pawitter J. S. Mangat, D. J. Resnick, David P. Mancini, Zorian S. Masnyj, N.V. Vorotnikova, Eric S. Ainley, Bing Lu
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :505-510
One promising technology for next generation lithography is the electron projection technique called SCALPEL. Relatively thin membrane and scattering materials are required for high contrast imaging during SCALPEL wafer exposures. The thin SCALPEL me
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::714cf67c1852532a6192ff3ebf08cb0a
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(01)00541-x
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(01)00541-x
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.