Výsledky vyhledávání

Chemisorption on β-SiC and amorphous SiO2 during CVD of silicon carbide from the Si-C-H-Cl system. Correlations with the nucleation process

Autor: D. Lespiaux, Francis Langlais

Publikováno v: Thin Solid Films. 265:40-51

A chemisorption approach based on the Langmuir model is proposed to describe the composition of the adsorbed layer occurring on amorphous SiO2 or β-SiC substrates in the chemical vapour deposition of silicon carbide from the Si-C-H-Cl system. The ca

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::eee81cf7caf87c9e5b625dadc65ec0a8
https://doi.org/10.1016/0040-6090(95)06562-8

Zobrazit plný text záznamu

Kinetic Processes in the CVD of SiC from CH3SiCl3-H2 in a Vertical Hot-Wall Reactor

Autor: Francis Langlais, Roger Naslain, F. Loumagne, D. Lespiaux, S. Schamm

Publikováno v: Journal de Physique IV Proceedings
Journal de Physique IV Proceedings, EDP Sciences, 1995, 05 (C5), pp.C5-105-C5-112. ⟨10.1051/jphyscol:1995510⟩

The chemical vapour deposition of SiC-based ceramics from the CH 3 SiCl 3 -H 2 precursor is investigated on the basis of large scale experimental and theoretical approaches. The use of a vertical cylindrical hot-wall LPCVD reactor permits to get a wi

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::2ce28b932a33d849094dd76be1555292
https://doi.org/10.1051/jphyscol:1995510

Zobrazit plný text záznamu

Correlations between gas phase supersaturation, nucleation process and physico-chemical characteristics of silicon carbide deposited from Si-C-H-Cl system on silica substrates

Autor: J. Sevely, D. Lespiaux, S. Schamm, Francis Langlais, Roger Naslain

Publikováno v: Journal of Materials Science
Journal of Materials Science, Springer Verlag, 1995, 30 (6), pp.1500-1510. ⟨10.1007/BF00375255⟩
Journal of Materials Science, 1995, 30 (6), pp.1500-1510. ⟨10.1007/BF00375255⟩

International audience; In the CH3SiCl3-H2 CVD system, from which SiC-based films are prepared, the supersaturation of the gas phase increases when temperature and total pressure decreases and when a diffusion-controlled kinetic process is changed in

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::46d9bff5fd62aed7e6be1f861be1c5ad
https://doi.org/10.1007/bf00375255

Zobrazit plný text záznamu

Chlorine and oxygen inhibition effects in the deposition of SiC-based ceramics from the Si-C-H-Cl system

Autor: D. Lespiaux, S. Schamm, Francis Langlais, Roger Naslain, J. Sevely

Publikováno v: Journal of the European Ceramic Society
Journal of the European Ceramic Society, 1995, 15 (1), pp.81-88. ⟨10.1016/0955-2219(95)91303-6⟩
Journal of the European Ceramic Society, Elsevier, 1995, 15 (1), pp.81-88. ⟨10.1016/0955-2219(95)91303-6⟩

International audience; The inhibitory role of HCl and oxygen in the chemical vapour deposition of SiC-based ceramics from the SiCHCl system, is pointed out in terms of nucleation and growth process on the basis of experimental and theoretic

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::aba1ca916fe451cd80ae97a6c1e7fe64
https://hal.science/hal-01745066

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Conference

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání