Zobrazeno 1 - 10
of 126
pro vyhledávání: '"D. Laidler"'
Autor:
D. LAIDLER
Publikováno v:
Moneta e Credito, Vol 39, Iss 153 (2013)
L'autore sostiene che , anche se i modi particolari in cui New- classica Macroeconomia ha applicato le sue idee di base sono inutilmente restrittive , la sua enfasi sul comportamento di equilibrio condizionata dallo stato delle aspettative individual
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/375450558e04458d9db06e2db8442da4
Autor:
D. LAIDLER
Publikováno v:
PSL Quarterly Review, Vol 39, Iss 156 (2013)
This work is devoted to assessing New-Classical ideas, and to asking what of lasting importance this school of macroeconomics has contributed since the early 1970s. It deals in turn with the relationship between New-Classical Economics and Monetarism
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/77f842a7143a460f89e46f161e1165ae
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Hugo Bender, Craig Huffman, Stephan Brus, S. Lok, Liesbeth Witters, Christa Vrancken, Philippe Absil, Sofie Mertens, P. Ong, Bertrand Parvais, V. Truffert, D. Laidler, Serge Biesemans, Nancy Heylen, Anabela Veloso, Malgorzata Jurczak, Nadine Collaert, S. Vanhaelemeersch, C. Baerts, M. Ercken, A.M. Goethals, Steven Demuynck, S. Verhaegen, J. De Backer, G.F. Lorusso, Michal Rakowski, K. Shah, D. Goossens, C. Delvaux, L. Romijn, A. De Keersgieter, Kurt G. Ronse, E. Altamirano, J. Hermans, Hans Meiling, Rita Rooyackers, P. Boelen, O. Richard, J. Versluijs, Andriy Hikavyy, J.-F. de Marneffe, J. Gelatos, A. Van Dijk, A. Noori, B. Hultermans, R. Arghavani, R. Schreutelkamp, Marc Demand, Anne Lauwers, B. Baudemprez, R. Cartuyvels, T. Y. Hoffmann, C. Pigneret, F. Van Roey
Publikováno v:
2008 IEEE International Electron Devices Meeting.
We report on a major advancement in full-field EUV lithography technology. A single patterning approach for contact level by EUVL (NA=0.25) was used for the fabrication of electrically functional 0.186 mum2 6T-SRAMs, with W-filled contacts. Alignment
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a8ddd66c6795bfebeab27bdbb9ae5a2f
https://doi.org/10.1109/iedm.2008.4796834
https://doi.org/10.1109/iedm.2008.4796834
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.