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Autor:
Hardy, A., Van Elshocht, S., Adelmann, C., Kittl, J.A., De Gendt, S., Heyns, M., D’Haen, J., D’Olieslaeger, M., Van Bael, M.K., Van den Rul, H., Mullens, J.
Publikováno v:
In Acta Materialia 2010 58(1):216-225
Autor:
Hardy, A., Adelmann, C., Van Elshocht, S., Van den Rul, H., Van Bael, M.K., De Gendt, S., D’Olieslaeger, M., Heyns, M., Kittl, J.A., Mullens, J.
Publikováno v:
In Applied Surface Science 2009 255(17):7812-7817
Autor:
Hardy, A., Van Elshocht, S., Adelmann, C., Conard, T., Franquet, A., Douhéret, O., Haeldermans, I., D'Haen, J., De Gendt, S., Caymax, M., Heyns, M., D'Olieslaeger, M., Van Bael, M.K., Mullens, J.
Publikováno v:
In Thin Solid Films 2008 516(23):8343-8351
Publikováno v:
In Chemical Physics Letters 2008 454(4):310-313
Autor:
BenMoussa, A., Theissen, A., Scholze, F., Hochedez, J.F., Schühle, U., Schmutz, W., Haenen, K., Stockman, Y., Soltani, A., McMullin, D., Vest, R.E., Kroth, U., Laubis, C., Richter, M., Mortet, V., Gissot, S., Delouille, V., Dominique, M., Koller, S., Halain, J.P, Remes, Z., Petersen, R., D’Olieslaeger, M., Defise, J.-M.
Publikováno v:
In Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, A 2006 568(1):398-405
Autor:
Martens, T., D’Haen, J., Munters, T., Beelen, Z., Goris, L., Manca, J., D’Olieslaeger, M., Vanderzande, D., De Schepper, L., Andriessen, R.
Publikováno v:
In Synthetic Metals 2003 138(1):243-247
Autor:
Aresu, S., De Ceuninck, W., Knuyt, G., Mertens, J., Manca, J., De Schepper, L., Degraeve, R., Kaczer, B., D’Olieslaeger, M., D’Haen, J.
Publikováno v:
In Microelectronics Reliability 2003 43(9):1483-1488
Autor:
Aresu, S., De Ceuninck, W., Dreesen, R., Croes, K., Andries, E., Manca, J., De Schepper, L., Degraeve, R., Kaczer, B., D’Olieslaeger, M., D’Haen, J.
Publikováno v:
In Microelectronics Reliability 2002 42(9):1485-1489
Autor:
Andries, E., Dreesen, R., Croes, K., De Ceuninck, W., De Schepper, L., Groeseneken, G., Lo, K.F., D’Olieslaeger, M., D’Haen, J.
Publikováno v:
In Microelectronics Reliability 2002 42(9):1409-1413
Autor:
Manca, J.V., Wondrak, W., Schaper, W., Croes, K., Haen, J.D, De Ceuninck, W., Dieval, B., Hartnagel, H.L., D'Olieslaeger, M., De Schepper, L.
Publikováno v:
In Microelectronics Reliability August-October 2000 40(8-10):1679-1682