Zobrazeno 1 - 10
of 472
pro vyhledávání: '"Current, Michael"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Neutral beam and ICP etching of HKMG MOS capacitors: Observations and a plasma-induced damage model.
Autor:
Kuo, Tai-Chen, Shih, Tzu-Lang, Su, Yin-Hsien, Lee, Wen-Hsi, Current, Michael Ira, Samukawa, Seiji
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 2018, Vol. 123 Issue 16, pN.PAG-N.PAG, 6p, 8 Diagrams, 1 Chart, 5 Graphs
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Current, Michael I *, Liu, Wei, Roth, Ian S, Lamm, Albert J, En, William G, Malik, Igor J, Feng, Lucia, Bryan, Michael A, Qin, Shu, Henley, Francois J, Chan, Chung, Cheung, Nathan W
Publikováno v:
In Surface & Coatings Technology 2001 136(1):138-141
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Materials Science in Semiconductor Processing 2000 3(3):221-225