Zobrazeno 1 - 10
of 41
pro vyhledávání: '"Con, Celal"'
Autor:
Con, Celal
Electron beam lithography (EBL) and Nanoimprint Lithography (NIL) are the promising tools for today’s technology in terms of resolution capability, fidelity and cost of operation. Achieving highest possible resolution is a key concept for EBL where
Externí odkaz:
http://hdl.handle.net/10012/6212
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering October 2012 98:246-249
Autor:
Con, Celal, Dey, Ripon, Ferguson, Mark, Zhang, Jian, Mansour, Raafat, Yavuz, Mustafa, Cui, Bo
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering October 2012 98:254-257
Publikováno v:
Nanoscale Research Letters, Vol 6, Iss 1, p 446 (2011)
Abstract We studied the exposure behavior of low molecular weight polystyrene as a negative tone electron beam lithography (EBL) resist, with the goal of finding the ultimate achievable resolution. It demonstrated fairly well-defined patterning of a
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/a77189b281bf43f5bae82800c4d05b7d
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; April 2022, Vol. 12031 Issue: 1 p120310M-120310M-5, 1082796p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Nano, Tomi F., Scott, Christopher C., Yunzhe Li, Con, Celal, Karim, Karim S., Cunningham, Ian A.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 1/11/2019, Vol. 10948, p1094816-1-1094816-11, 11p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.