Zobrazeno 1 - 10
of 461
pro vyhledávání: '"Cioffi N"'
Autor:
Aloia, A., Izzi, M., Rizzuti, A., Casiello, M., Mastrorilli, P., Cioffi, N., Nacci, A., Picca, R.A., Monopoli, A.
Publikováno v:
In Molecular Catalysis 1 May 2024 560
Publikováno v:
Applied Physics Letters 80, 1565, 2002
We have investigated the phenomenon of swelling due to acetone diffusion in fluorocarbon polymer films doped with different gold concentrations below the percolation threshold. The presence of the gold clusters in the polymer is shown to improve the
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1205.5645
Autor:
Cioffi, N., de Ceglia, D., De Sario, M., D'Orazio, A., Petruzzelli, V., Prudenzano, F., Scalora, M., Trevisi, S., Vincenti, M. A.
A metallo-dielectric multilayer structure is proposed as a novel approach to the analysis of lactose malabsorption. When lactose intolerance occurs, the bacterial overgrowth in the intestine causes an increased spontaneous emission of H2 in the human
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/physics/0701233
Autor:
Sportelli, M.C., Picca, R.A., Manoli, K., Re, M., Pesce, E., Tapfer, L., Di Franco, C., Cioffi, N., Torsi, L.
Publikováno v:
In Applied Surface Science 31 October 2017 420:313-322
Autor:
Melisi, D., Nitti, M.A., Valentini, M., Valentini, A., Ditaranto, N., Cioffi, N., Di Franco, C.
Publikováno v:
In Thin Solid Films 30 September 2013 543:19-22
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Di Franco, C., Cioffi, N., Ditaranto, N., Vitiello, M.S., Sibilano, M., Torsi, L., Scamarcio, G.
Publikováno v:
In Journal of Materials Processing Tech. 2008 206(1):462-466
Autor:
Di Franco, C., Cioffi, N., Ditaranto, N., Vitiello, M.S., Sibilano, M., Torsi, L., Scamarcio, G.
Publikováno v:
In Thin Solid Films 2007 515(18):7195-7202
Autor:
Giaccherini A.[1], Russo F.[1], Carlà F.[2], Guerri A.[1], Picca R.[3], Cioffi N.[3], Cinotti S.[1], Montegrossi G.[4], Passaponti M.[1], Di Benedetto F.[3, Felici R.[6], Innocenti M. [1]
Publikováno v:
Applied surface science 432 (2018): 53–59. doi:10.1016/j.apsusc.2017.07.294
info:cnr-pdr/source/autori:Giaccherini A.[1], Russo F.[1], Carlà F.[2], Guerri A.[1], Picca R.[3], Cioffi N.[3], Cinotti S.[1], Montegrossi G.[4], Passaponti M.[1], Di Benedetto F.[3,4], Felici R.[6], Innocenti M. [1]/titolo:Operando SXRD of E-ALD deposited sulphides ultra-thin films: Crystallite strain and size/doi:10.1016%2Fj.apsusc.2017.07.294/rivista:Applied surface science/anno:2018/pagina_da:53/pagina_a:59/intervallo_pagine:53–59/volume:432
info:cnr-pdr/source/autori:Giaccherini A.[1], Russo F.[1], Carlà F.[2], Guerri A.[1], Picca R.[3], Cioffi N.[3], Cinotti S.[1], Montegrossi G.[4], Passaponti M.[1], Di Benedetto F.[3,4], Felici R.[6], Innocenti M. [1]/titolo:Operando SXRD of E-ALD deposited sulphides ultra-thin films: Crystallite strain and size/doi:10.1016%2Fj.apsusc.2017.07.294/rivista:Applied surface science/anno:2018/pagina_da:53/pagina_a:59/intervallo_pagine:53–59/volume:432
Electrochemical Atomic Layer Deposition (E-ALD), exploiting surface limited electrodeposition of atomic layers, can easily grow highly ordered ultra-thin films and 2D structures. Among other compounds Cu x Zn y S grown by means of E-ALD on Ag(111) ha
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.