Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Chua, Jeun Kee"'
Publikováno v:
In Optics and Laser Technology 2008 40(1):142-155
Autor:
Chua, Jeun Kee
Optical lithography is an important process in the realization and advancement of nanotechnology. This thesis proposes and investigates potential approaches to ameliorate process issues associated to patterning at high resolution as well as to achiev
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ed8aaf6db7159cfa72d84db025c78203
https://doi.org/10.32657/10356/41659
https://doi.org/10.32657/10356/41659
Publikováno v:
Lithography
A recently proposed novel plasmonic lithographic concept and methodology based on the excitation of gap modes in a metal particle-surface system is discussed in this chapter. The
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=intech______::8b6552e9e5739d74346a85cc6341c954
http://www.intechopen.com/articles/show/title/metal-particle-surface-system-for-plasmonic-lithography
http://www.intechopen.com/articles/show/title/metal-particle-surface-system-for-plasmonic-lithography
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Murukeshan VM; School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore., Chua JK, Tan SK, Lin QY
Publikováno v:
Optics express [Opt Express] 2008 Sep 01; Vol. 16 (18), pp. 13857-70.