Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"Chris Magg"'
Autor:
Gregory R. Bogart, Myrtle I. Blakey, David P. Mancini, D. J. Resnick, K. H. Smith, S.-I. Han, Michael J. Lercel, William J. Dauksher, James Alexander Liddle, Leonidas E. Ocola, Michael J. Trybendis, Richard J. Kasica, C. G. Caminos, Chris Magg, Kevin W. Collins, Anthony E. Novembre, Chester S. Knurek, Pawitter J. S. Mangat, Zorian S. Masnyj, R. Jeffer, Milton L. Peabody, K. Teffeau, Reginald C. Farrow, L. Rutberg, N. Cadwell, R. F. Fullowan
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 19:2659
Methods for correcting pattern placement errors found on SCALPEL™ masks are addressed. The methodology and implementation of individual membrane image placement correction is presented, showing its advantages over the global image placement correct
Autor:
Chris Magg, Ray Jeffer, Neal Caldwell, Michael J. Trybendis, Monica Barrett, Michael J. Lercel, Kevin W. Collins, Lucien Bouchard
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 18:3210
Masks for electron projection lithography (EPL) require the use of thin membranes for either stencil or all membrane scattering masks. The processes of forming the printable patterns before or after the membrane etch step are compared for EPL stencil
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.