Zobrazeno 1 - 10
of 15
pro vyhledávání: '"Chanson, Romain"'
Autor:
Chanson, Romain, Tillocher, Thomas, Lefaucheux, Philippe, Dussart, Remi, Zhang, Liping, De Marneffe, Jean-Francois, Shen, Peng, Maekawa, Kaoru, Yatsuda, Koichi, Shigeru, Tahara
Publikováno v:
40th International Symposium on Dry Process
40th International Symposium on Dry Process, Nov 2018, Nagoya, France
40th International Symposium on Dry Process, Nov 2018, Nagoya, France
International audience
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::1789cbd4821cea4ee9fd1b1c3d25da6c
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02311275
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02311275
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Leroy, Floriane, Brochu, Nataniel, Chanson, Romain, Dussart, Remi, Tillocher, Thomas, De Marneffe, Jean-Francois, Zhang, Liping, Maekawa, Kaoru, Yatsuda, Koichi, Shigeru, Tahara, Dussarrat, Christian
Publikováno v:
Plasma Etch and Strip in Microtechnology
Plasma Etch and Strip in Microtechnology, May 2016, Grenoble, France
Plasma Etch and Strip in Microtechnology, May 2016, Grenoble, France
International audience
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::1e9493925b76a7f603bd1bcbd1a18a28
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01344722
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01344722
Autor:
Marneffe, Jean-François de, Yamaguchi, Tatsuya, Fujikawa, Makoto, Rezvanov, Askar, Chanson, Romain, Zhang, Jianran, Otell, Ziad el, Babaei-Gavan, Khashayar, Nozawa, Syuji, Kikuchi, Yuki, Maekawa, Kaoru
Publikováno v:
ACS Applied Electronic Materials; Dec2019, Vol. 1 Issue 12, p2602-2611, 10p
Publikováno v:
Plasma Processes and Polymers
Plasma Processes and Polymers, Wiley-VCH Verlag, 2013, 10 (3), pp.213. ⟨10.1002/ppap.201200083⟩
Plasma Processes and Polymers, Wiley-VCH Verlag, 2013, 10 (3), pp.213. ⟨10.1002/ppap.201200083⟩
International audience; A 2D Monte-Carlo etching model of InP by a Cl2/Ar/N2 plasma discharge coupled to our kinetic plasma model and sheath model have been developed. It allows prediction of geometrical and chemical profile of etched trenches versus
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::b9ed5d5539de32b0db8f4577fc8f778d
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00975499
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00975499
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Bouchoule, Sophie, Chanson, Romain, Pageau, Arnaud, Cambril, Edmond, Guilet, Stephane, Rhallabi, Ahmed, Cardinaud, Christophe
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; Sep/Oct2015, Vol. 33 Issue 5, p1-11, 11p