Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Ch. Chanelière"'
Publikováno v:
Thin Solid Films. 296:32-36
Silicon nitride (Si-N) and oxynitride (Si-O-N) thin films are obtained by low pressure rapid thermal chemical vapor deposition (RT-LPCVD) by using the reaction of diluted silane (SiH 4 /Ar = 10%) with ammonia (NH 3 ) or a mixture of ammonia and nitro
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.