Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Correlation between microstructure control, density and diffusion barrier properties of TiN(O) films

Autor: Alberti A., Molinaro S., La Via F., Bongiorno C., Ceriola G., Ravesi S.

Publikováno v: Microelectronic engineering 60 (2002): 81–87.
info:cnr-pdr/source/autori:Alberti A., Molinaro S., La Via F., Bongiorno C., Ceriola G., Ravesi S./titolo:Correlation between microstructure control, density and diffusion barrier properties of TiN(O) films/doi:/rivista:Microelectronic engineering/anno:2002/pagina_da:81/pagina_a:87/intervallo_pagine:81–87/volume:60

TiN layers have been used as diffusion barriers to prevent intermixing of aluminium and silicon. During TiN deposition on Ti by reactive sputtering, oxygen has been introduced in-situ into the barrier. Depending on the oxygen flow, a different conten

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=cnr_________::27a6375a9ce52a5863b7b621257a199c
http://www.cnr.it/prodotto/i/222281

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

X-ray reflectivity study of the structural properties of SiO2 and SiOF thin films

Autor: Ceriola, G., Iacona, F., La Via, F., Raineri, V., Elza Bontempi, Laura Eleonora Depero

Publikováno v: Università degli Studi di Brescia-IRIS

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::734c9ff4180d23d53782ba8155e39bf4
https://iris.unibs.it/handle/11379/18132