Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"Cats, Selwyn"'
Autor:
van de Kerkhof, Mark, Yakunin, Andrei M., Kvon, Vladimir, Cats, Selwyn, Heijmans, Luuk, Chaudhuri, Manis, Asthakov, Dmitry
In the past years, EUV lithography scanner systems have entered High-Volume Manufacturing for state-of-the-art Integrated Circuits (IC), with critical dimensions down to 10 nm. This technology uses 13.5 nm EUV radiation, which is transmitted through
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2012.03027
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Particulate and molecular contamination control in EUV-induced H2-plasma in EUV lithographic scanner
Autor:
Soares, Carlos E., Wooldridge, Eve M., Matheson, Bruce A., van de Kerkhof, Mark, Galutschek, Ernst, Yakunin, Andrei, Cats, Selwyn, Cloin, Christian
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; September 2020, Vol. 11489 Issue: 1 p114890K-114890K-17, 11374128p
Autor:
Felix, Nelson M., Lio, Anna, van de Kerkhof, Mark, Yakunin, Andrei, Kvon, Vladimir, van de Wetering, Ferdi, Cats, Selwyn, Heijmans, Luuk, Nikipelov, Andrey, Lassise, Adam, Banine, Vadim
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; March 2020, Vol. 11323 Issue: 1 p113230Y-113230Y-12, 11209783p