Zobrazeno 1 - 10
of 33
pro vyhledávání: '"Caristia L."'
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 2007 84(3):486-489
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Caristia L., Nicotra G., Bongiorno., Costa N., Ravesi S., Coffa S., De Bastiani R., Grimaldi., MG., Spinella C.
Publikováno v:
Microelectronics and reliability 47 (2007): 777–780. doi:10.1016/j.microrel.2007.01.056
info:cnr-pdr/source/autori:Caristia L.; Nicotra G.; Bongiorno.; C.; Costa N.; Ravesi S.; Coffa S.; De Bastiani R.; Grimaldi.; MG.; Spinella C./titolo:The influence of hydrogen and nitrogen on the formation of Si nanoclusters embedded in sub-stoichiometric silicon oxide layers/doi:10.1016%2Fj.microrel.2007.01.056/rivista:Microelectronics and reliability/anno:2007/pagina_da:777/pagina_a:780/intervallo_pagine:777–780/volume:47
info:cnr-pdr/source/autori:Caristia L.; Nicotra G.; Bongiorno.; C.; Costa N.; Ravesi S.; Coffa S.; De Bastiani R.; Grimaldi.; MG.; Spinella C./titolo:The influence of hydrogen and nitrogen on the formation of Si nanoclusters embedded in sub-stoichiometric silicon oxide layers/doi:10.1016%2Fj.microrel.2007.01.056/rivista:Microelectronics and reliability/anno:2007/pagina_da:777/pagina_a:780/intervallo_pagine:777–780/volume:47
This work reports the study concerning the influence of the preparation conditions on the structure of silicon rich oxide (SRO) deposited by PECVD method by which the structural properties of the film are strictly related. In particular we investigat
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::d8981cf053e07a18e8a2f504f0ed77cd
https://publications.cnr.it/doc/36034
https://publications.cnr.it/doc/36034
Publikováno v:
Microelectronic engineering 84 (2007): 486–489.
info:cnr-pdr/source/autori:Nicotra G, Bongiorno C, Caristia L, Coffa S, Spinella C/titolo:Quantitative electron energy loss spectroscopy of Si nanoclusters embedded in SiOx/doi:/rivista:Microelectronic engineering/anno:2007/pagina_da:486/pagina_a:489/intervallo_pagine:486–489/volume:84
info:cnr-pdr/source/autori:Nicotra G, Bongiorno C, Caristia L, Coffa S, Spinella C/titolo:Quantitative electron energy loss spectroscopy of Si nanoclusters embedded in SiOx/doi:/rivista:Microelectronic engineering/anno:2007/pagina_da:486/pagina_a:489/intervallo_pagine:486–489/volume:84
We have used a methodology, based on electron energy loss spectroscopy combined with energy filtered images, which allows us to quantify the clustered silicon concentration in annealed sub-stoichiometric silicon oxide layers (SiOx). This information
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=cnr_________::1fa207f69cb33fc388fab0611d9df915
http://www.cnr.it/prodotto/i/35980
http://www.cnr.it/prodotto/i/35980
Publikováno v:
16 (2003): 547–553.
info:cnr-pdr/source/autori:Castagna M.E., Coffa S., Monaco M., Caristia L., Messina A., Mangano R., Bongiorno C./titolo:Si-based materials and devices for light emission in silicon/doi:/rivista:/anno:2003/pagina_da:547/pagina_a:553/intervallo_pagine:547–553/volume:16
info:cnr-pdr/source/autori:Castagna M.E., Coffa S., Monaco M., Caristia L., Messina A., Mangano R., Bongiorno C./titolo:Si-based materials and devices for light emission in silicon/doi:/rivista:/anno:2003/pagina_da:547/pagina_a:553/intervallo_pagine:547–553/volume:16
We report on the fabrication and performances of extremely efficient Si-based light sources. The devices consist of MOS structures with erbium (Er) implanted in the thin gate oxide. The devices exhibit strong 1.54 microns electroluminescence (EL) at
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=cnr_________::ac5650d0d2c9c96fe2345592d830fa4e
http://www.cnr.it/prodotto/i/35316
http://www.cnr.it/prodotto/i/35316
Autor:
Mangano, F., Caristia, L., Costa, N., Camalleri, M., Ravesi, S., Scalese, S., Bagiante, S., Privitera, V.
Publikováno v:
2007 15th International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors; 2007, p271-274, 4p
Publikováno v:
32nd European Solid-State Device Research Conference; 2002, p439-442, 4p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.