Subtractive Patterning via Chemical Lift-Off Lithography

Autor: Liao, Wei-Ssu, Cheunkar, Sarawut, Cao, Huan H., Bednar, Heidi R., Weiss, Paul S., Andrews, Anne M.

Publikováno v: Science, 2012 Sep . 337(6101), 1517-1521.

Externí odkaz: http://dx.doi.org/10.1126/science.1221774

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Controlled DNA Patterning by Chemical Lift-Off Lithography: Matrix Matters

Autor: Cao, Huan H, Nakatsuka, Nako, Serino, Andrew C, Liao, Wei-Ssu, Cheunkar, Sarawut, Yang, Hongyan, Weiss, Paul S, Andrews, Anne M

Publikováno v: ACS nano, vol 9, iss 11
Cao, HH; Nakatsuka, N; Serino, AC; Liao, WS; Cheunkar, S; Yang, H; et al.(2015). Controlled DNA Patterning by Chemical Lift-Off Lithography: Matrix Matters. ACS Nano, 9(11), 11439-11454. doi: 10.1021/acsnano.5b05546. UCLA: Retrieved from: http://www.escholarship.org/uc/item/2v30v7vp

© 2015 American Chemical Society. Nucleotide arrays require controlled surface densities and minimal nucleotide-substrate interactions to enable highly specific and efficient recognition by corresponding targets. We investigated chemical lift-off li

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::4e6459066d86313d8490006d3c94d9df
https://escholarship.org/uc/item/2v30v7vp