Zobrazeno 1 - 10
of 25
pro vyhledávání: '"Cabannes‐Boué, Benjamin"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Putranto, Achmad Fajar, Petit-Etienne, Camille, Cavalaglio, Sébastien, Cabannes-Boué, Benjamin, Panabiere, Marie, Forcina, Gianluca, Fleury, Guillaume, Kogelschatz, Martin, Zelsmann, Marc
Publikováno v:
ACS Applied Materials & Interfaces; 5/29/2024, Vol. 16 Issue 21, p27841-27849, 9p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Chevalier, Xavier, Gomes correia, Cindy, POUND-LANA, Gwenaelle, Bézard, Philippe, SÉRÉGÉ, Matthieu, PETIT-ETIENNE, Camille, Gay, Guillaume, Cunge, Gilles, CABANNES-BOUÉ, Benjamin, Nicolet, Célia, Navarro, Christophe, Cayrefourcq, Ian, Müller, Marcus, Hadziioannou, Georges, Iliopoulos, Ilias, Fleury, Guillaume, Gomez Correia, Cindy, Zelsmann, M.
Publikováno v:
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII, Feb 2021, Online Only, France. pp.26, ⟨10.1117/12.2583717⟩
Proc. SPIE 11612, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII
SPIE Advanced Lithography conference – Alternative Lithographic Technologies
SPIE Advanced Lithography conference – Alternative Lithographic Technologies, Feb 2021, San Jose, USA, France. pp.26, ⟨10.1117/12.2583717⟩
Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII, Feb 2021, Online Only, France. pp.26, ⟨10.1117/12.2583717⟩
Proc. SPIE 11612, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVIII
SPIE Advanced Lithography conference – Alternative Lithographic Technologies
SPIE Advanced Lithography conference – Alternative Lithographic Technologies, Feb 2021, San Jose, USA, France. pp.26, ⟨10.1117/12.2583717⟩
Results for the self-assembly of lamellar silicon-containing high-χ block copolymers (BCP) with innovative neutral top-coat design are presented. We demonstrate that these materials and associated processes are compatible with a standard lithographi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::eadbf2006f9b9cd3348720c9fd567c1c
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03448358
https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-03448358
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Wu, Xingyu, Gross, Bryan, Leuschel, Benjamin, Mougin, Karine, Dominici, Sébastien, Gree, Simon, Belqat, Mehdi, Tkachenko, Vitalii, Cabannes‐Boué, Benjamin, Chemtob, Abraham, Poly, Julien, Spangenberg, Arnaud
Publikováno v:
Advanced Functional Materials; 4/4/2022, Vol. 32 Issue 14, p1-8, 8p
Autor:
Pound-Lana, Gwenaelle, Bézard, Philippe, Petit-Etienne, Camille, Cavalaglio, Sébastien, Cunge, Gilles, Cabannes-Boué, Benjamin, Fleury, Guillaume, Chevalier, Xavier, Zelsmann, Marc
Publikováno v:
ACS Applied Materials & Interfaces; 10/20/2021, Vol. 13 Issue 41, p49184-49193, 10p